[發明專利]檢查設備和方法在審
| 申請號： | 201610099812.5 | 申請日： | 2013-01-31 |
| 公開（公告）號： | CN105549341A | 公開（公告）日： | 2016-05-04 |
| 發明（設計）人： | A·登博夫 | 申請（專利權）人： | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 王茂華;呂世磊 |
| 地址： | 荷蘭維*** | 國省代碼： | 荷蘭;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 檢查 設備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光學設備，包括用于將輻射束聚焦在目標結構上的光斑 處的照射光學器件，其中所述照射光學器件包括設置在光瞳面處或 附近的濾光片，所述濾光片使得所述束的傳輸損耗隨著距所述束的 光軸的徑向距離而增大。
2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述濾光片包括具有其 厚度隨著徑向遠離中心點而增大的金屬涂層的透明襯底。
3.根據權利要求2所述的設備，其中，所述厚度首先緩慢增大 并且隨后隨著距所述中心點的距離增大而以增大的速率增大，以使 得所述濾光片的徑向透射函數近似漢寧函數。
4.一種測量襯底上的目標結構的特性的方法，所述方法包括： 使用根據權利要求1至3任一項所述的光學設備采用輻射光斑照射 所述目標結構，檢測由所述目標結構衍射的輻射，以及處理檢測到 的輻射以獲得對所述目標結構的一個或多個參數的測量。
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