[發明專利]陣列基板、顯示面板以及液晶顯示裝置有效
| 申請號: | 201610098282.2 | 申請日: | 2016-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN105572981B | 公開(公告)日: | 2018-05-25 |
| 發明(設計)人: | 劉元甫 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列基板 存儲電容 液晶顯示裝置 顯示面板 交叉串擾 影像殘留 并聯 應用 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括:
基板;
形成在所述基板上的第一公共電極;
覆蓋所述第一公共電極的緩沖層;
形成在所述緩沖層背離所述第一公共電極的表面上的有源層,所述有源層包括與所述第一公共電極相對設置的第一部分,所述第一公共電極、所述第一部分以及夾在所述第一公共電極及所述第一部分之間的所述緩沖層構成第一存儲電容;
覆蓋所述有源層的柵極絕緣層;
形成在所述柵極絕緣層背離所述有源層的表面上的介質層,所述介質層包括層疊設置的第一子介質層和第二子介質層,所述第一子介質層設置在所述柵極絕緣層與所述第二子介質層之間,所述第二子介質層的材料為氮化硅材料,所述第二子介質層用于提高有源層的電性能,所述柵極絕緣層與所述介質層上共同開設第一孔,所述第一孔用于顯露部分所述第一部分;
形成在所述介質層背離所述柵極絕緣層的表面上的漏區,所述漏區通過所述第一孔連接至所述第一部分;
覆蓋所述漏區的平坦層,所述平坦層開設用于暴露部分所述漏區的第二孔;以及
依次層疊形成在所述平坦層上的第二公共電極、鈍化層和像素電極,所述第二公共電極、所述像素電極以及夾在所述像素電極與所述第二公共電極之間的所述鈍化層構成第二存儲電容,所述像素電極通過所述第二孔連接至所述漏區。
2.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述有源層還包括與所述第一部分相連的第二部分,所述陣列基板包括柵區,所述柵區形成在所述柵極絕緣層與所述介質層之間,且所述柵區正對所述第二部分設置。
3.如權利要求2所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括形成在所述基板上的遮光層,所述遮光層與所述第一公共電極同層且間隔設置,所述遮光層與所述柵區相對設置。
4.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述陣列基板還包括歐姆接觸層,所述歐姆接觸層設置在所述第一部分與所述漏區之間,用于降低所述第一部分與所述漏區之間的接觸電阻。
5.如權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述歐姆接觸層包括一輕摻雜區及一重摻雜區,所述輕摻雜區與所述第一部分接觸,所述重摻雜區連接在所述輕摻雜區與所述漏區,所述輕摻雜區的摻雜濃度小于所述重摻雜區的摻雜濃度。
6.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述鈍化層覆蓋所述第二公共電極且通過所述第二孔連接至所述漏區,所述鈍化層開設用于暴露部分所述漏區的第三孔。
7.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第一公共電極的材質為透明導電薄膜層。
8.一種顯示面板,其特征在于,包括如權利要求1~7任一項所述的陣列基板。
9.一種液晶顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求1~7任意一項所述的陣列基板。
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