[發明專利]一種PCBN專用氧化物基高熵合金陶瓷結合劑在審
| 申請號： | 201610092550.X | 申請日： | 2016-02-19 |
| 公開（公告）號： | CN105603287A | 公開（公告）日： | 2016-05-25 |
| 發明（設計）人： | 王秦生;穆云超;梁寶巖 | 申請（專利權）人： | 中原工學院 |
| 主分類號： | C22C29/12 | 分類號： | C22C29/12;C22C30/00 |
| 代理公司： | 鄭州中民專利代理有限公司 41110 | 代理人： | 郭中民;許延麗 |
| 地址： | 450007 河*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 pcbn 專用 氧化物 基高熵 合金 陶瓷 結合 | ||
【權利要求書】：
1.一種PCBN專用氧化物基高熵合金陶瓷結合劑，其特征在于：它是由下述質量百分比 的原料組成，其中：高熵合金30%～65%、氧化物陶瓷35%～70%。
2.根據權利要求1所述的PCBN專用氧化物基高熵合金陶瓷結合劑，其特征在于：所述高 熵合金包括下述質量百分比的原料組成：其中：鉻15%～25%、鎢15%～25%、鋯15%～25%、鈷 10%～20%、鋁10%～20%，以及0%～5%的鈹；且所述高熵合金為粒徑5～40μm的粉末顆粒。
3.根據權利要求1所述的PCBN專用氧化物基高熵合金陶瓷結合劑，其特征在于：所述高 熵合金是由下述質量百分比的原料組成，其中：鉻25%、鎢20%、鋯20%、鈷15%、鋁15%、鈹5%。
4.根據權利要求1所述的PCBN專用氧化物基高熵合金陶瓷結合劑，其特征在于：所述氧 化物陶瓷是由下述質量百分比的原料組成，其中：氧化鋁55%～95%、氧化鋯5%～45%；且所 述氧化物陶瓷為粒徑5～40μm的粉末顆粒。
5.根據權利要求1所述的PCBN專用氧化物基高熵合金陶瓷結合劑，其特征在于：所述氧 化物陶瓷是由下述質量百分比的原料組成，其中：氧化鋁70%，氧化鋯30%。
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