[發明專利]一種自潔抗菌陶瓷釉及其制備方法

有效

• 申請號: 201610074792.6
• 申請日: 2016-02-02
• 公開（公告）號: CN105669035B
• 公開（公告）日: 2017-11-10
• 發明（設計）人: 郭華頌;郭曉輝;郭鴻源;郭榮彭;陳海平
• 申請（專利權）人: 大埔漳聯瓷業發展有限公司
• 主分類號: C03C8/04
• 分類號: C03C8/04;C03C8/06;C04B41/86
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350
• 代理人: 湯東鳳

技術領域

本發明涉及一種陶瓷，具體涉及一種自潔抗菌陶瓷釉及其制備方法。屬于陶瓷技術領域。

背景技術

傳統陶瓷以白色為主，釉面只采用硅酸鋯起白色作用，并無其他功能，而且傳統陶瓷釉面在放大鏡下是凹凸不平的，使得污垢、細菌易于躲藏、繁殖；后來，在傳統陶瓷燒制成品后，加入后期涂膜熱處理，沒有經過高溫燒制，涂膜穩定性差，易剝落，最終失去了防污抗菌效果。針對上述問題，國內外研制出了各類具有優異抗菌性能的無機抗菌材料,被廣泛應用于纖維、陶瓷、塑料、建材、涂料、搪瓷等各個領域。目前廣泛研究的無機抗菌材料主要集中在金屬Ag、Cu、Zn、Ti和一些稀有金屬元素及其氧化物。目前的抗菌陶瓷主要是通過添加氧化鈦、銀、稀土元素或者麥飯石和遠紅外材料抗菌劑來實現殺菌作用。然而現有的抗菌陶瓷要么生產成本高不利于大范圍推廣使用，要么對熱和光敏感，容易變黑影響淺色陶瓷的外觀，最重要的是，抗菌效果均不夠理想。

中國發明專利公開號CN101580342A，公開日2009年11月18日，發明創造名稱：一種自潔抗菌陶瓷釉及其制備方法與陶瓷產品，該發明公開了一種自潔抗菌陶瓷釉及其制備方法與陶瓷產品，關鍵于含有Ti元素和Ag元素，具體組成為：SiO₂52～72％、Al₂O₃5～9％、CaO 6～10％、K₂O 2～6％、Na₂O 0.5～1.5％、ZnO 0.5～3％、Li₂O 1～3％、TiO₂4～8％、V₂O₅1～3％、Ag₂O₃1～5％。雖然該發明陶瓷釉釉面平整度高，晶質細致精密、光潔度好、無針孔、玻璃感極柔極佳，觸摸感覺非常平滑，并且達到超平滑釉面的自潔抗菌的永久效果，然而存在如下不足：Ti元素和Ag元素是以氧化物形式存在，抗菌效果在時效和菌種均有限。

發明內容

本發明的目的是為克服上述現有技術的不足，提供一種自潔抗菌陶瓷釉。

本發明還提供了該陶瓷釉的制備方法。

為實現上述目的，本發明采用下述技術方案：

一種自潔抗菌陶瓷釉，包括以下重量份的組分：水20～90份、SiO₂30～65份、Al₂O₃16～28份、CaCO₃12～33份、B₂O₃1～4份、Na₂SiO₃1～9份、ZnO 1～6份、CuO 1～4份、MnO1～4份、MgH₂1～3份、氫氧化鍺0.04-5份、氫氧化鎵0.08-8份、納米氧化銦錫0.5-3份、助劑1-10份。

所述的自潔抗菌陶瓷釉，包括以下重量份的組分：水30～60份、SiO₂35～55份、Al₂O₃20～22份、CaCO₃14～30份、B₂O₃1.5～3.5份、Na₂SiO₃5～8份、ZnO 3～5份、CuO 2～3份、MnO 1.2～3.8份、MgH₂1.5～2.5份、氫氧化鍺0.1-4.35份、氫氧化鎵0.2-5.65份、納米氧化銦錫1-2.82份、助劑2-8份。

所述的氫氧化鍺由二氫氧化鍺和四氫氧化鍺組成，二氫氧化鍺和四氫氧化鍺的質量比為1:1～5

所述的助劑為所述助劑包括穩定劑、抗氧劑和分散劑。

其中所述穩定劑是KBr，NaBr，黃血鹽，赤血鹽，硫酸氫鈉。

所述抗氧劑是對苯二胺，二甲基對苯二胺，對苯二酚。

所述分散劑是硅烷偶聯劑。

一種自潔抗菌陶瓷釉的制備方法，包括如下方法步驟：

(1)向加入助劑蒸餾水溶液中，依次添加余下組分，常溫下，超聲分散，充分溶解后，后將其倒入球磨罐中，以80-120rpm轉速，球磨3-4h，得混合料；

(2)將混合料在惰性氣體保護下，900～1000℃下熔煉1～1.5小時，接著在1300～1500℃下，熔煉1～2小時，然后水淬，得到塊狀釉料；