[發明專利]一種自潔抗菌陶瓷釉及其制備方法

有效

• 申請號: 201610074792.6
• 申請日: 2016-02-02
• 公開（公告）號: CN105669035B
• 公開（公告）日: 2017-11-10
• 發明（設計）人: 郭華頌;郭曉輝;郭鴻源;郭榮彭;陳海平
• 申請（專利權）人: 大埔漳聯瓷業發展有限公司
• 主分類號: C03C8/04
• 分類號: C03C8/04;C03C8/06;C04B41/86
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350
• 代理人: 湯東鳳

1.一種自潔抗菌陶瓷釉，其特征在于：原料包括以下重量份的組分：水 20～90份、SiO₂ 30～65份、Al₂O₃ 16～28份、CaCO₃ 12～33份、B₂O₃ 1～4份、Na₂SiO₃ 1～9份、ZnO 1～6份、CuO 1～4份、MnO 1～4份、MgH₂ 1～3份、氫氧化鍺0.04-5份、氫氧化鎵0.08-8份、納米氧化銦錫0.5-3份、助劑1-10份；所述的助劑為穩定劑或抗氧劑或分散劑。

2.根據權利要求1所述的自潔抗菌陶瓷釉，其特征在于：原料包括以下重量份的組分：水 30～60份、SiO₂ 35～55份、Al₂O₃ 20～22份、CaCO₃ 14～30份、B₂O₃ 1.5～3.5份、Na₂SiO₃ 5～8份、ZnO 3～5份、CuO 2～3份、MnO 1.2～3.8份、MgH₂ 1.5～2.5份、氫氧化鍺0.1-4.35份、氫氧化鎵0.2-5.65份、納米氧化銦錫1-2.82份、助劑2-8份；所述的助劑為穩定劑或抗氧劑或分散劑。

3.根據權利要求1或2所述的自潔抗菌陶瓷釉，其特征在于：所述的氫氧化鍺由二氫氧化鍺和四氫氧化鍺組成，二氫氧化鍺和四氫氧化鍺的質量比為1:1～5。

4.根據權利要求1所述的自潔抗菌陶瓷釉，其特征在于：其中所述穩定劑是KBr，NaBr，黃血鹽，赤血鹽，硫酸氫鈉。

5.根據權利要求1所述的自潔抗菌陶瓷釉，其特征在于：所述抗氧劑是對苯二胺，二甲基對苯二胺，對苯二酚。

6.根據權利要求1所述的自潔抗菌陶瓷釉，其特征在于：所述分散劑是硅烷偶聯劑。

7.權利要求1所述的一種自潔抗菌陶瓷釉的制備方法，其特征在于：包括如下方法步驟：

向加入助劑蒸餾水溶液中，依次添加余下組分，常溫下，超聲分散，充分溶解后，后將其倒入球磨罐中，以80-120rpm轉速，球磨3-4h，得混合料；

將混合料在惰性氣體保護下，900～1000℃下熔煉1～1.5小時，接著在1300～1500℃下，熔煉1～2小時，然后水淬，得到塊狀釉料；

將塊狀釉料經濕法球磨后，過篩除雜得到釉漿，將釉漿施于坯體表面，干燥至釉漿中的水分小于1%后，分別在1000～1100℃和1200～1250℃下交替燒制2～3次，每次燒制時間為20～30分鐘，冷卻后，得到陶瓷釉料。

8.根據權利要求7所述的自潔抗菌陶瓷釉的制備方法，其特征在于：所述釉漿的濃度為0.5～1.2g/mL，施敷于坯體表面。

9.根據權利要求7所述的自潔抗菌陶瓷釉的制備方法，其特征在于：所述的干燥是在60～180℃下烘干或自然晾干。