[發(fā)明專利]一種微波印制電路板上電阻集成方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610051085.5 | 申請日: | 2016-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN105517343A | 公開(公告)日: | 2016-04-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 廖根望 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞聯(lián)橋電子有限公司 |
| 主分類號: | H05K1/16 | 分類號: | H05K1/16 |
| 代理公司: | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 肖平安 |
| 地址: | 523380 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 微波 印制 電路板 電阻 集成 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電路板生產(chǎn)加工技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種微波印制電路板上電阻集成方法。
背景技術(shù)
印刷線路板(PCB)幾乎應(yīng)用于我們能見到的所有的電子設(shè)備中,小到電子手表、計算 器、通用電腦,大到計算機(jī)、電子通訊設(shè)備、軍用武器系統(tǒng)等,只要有集成電路等電子元器 件,它們之間的電氣互連都要用到PCB。印刷線路板是通過在絕緣基材上設(shè)置電子元器件之 間電氣連接的導(dǎo)電圖形而形成,其制造工藝較為復(fù)雜。為了提高印刷線路板的導(dǎo)電性、可焊 接性和抗氧化性,在要求較高的印刷線路板上都要在其導(dǎo)電圖形的銅箔表面鍍鎳和金。
微波印制電路板是特種印制電路板的一種,主要適用于微波、毫米波頻段器件組裝, 相關(guān)產(chǎn)品可應(yīng)用于軍民領(lǐng)域,如雷達(dá)、電子對抗和通信等。目前,微波印制電路板主要向多 層電路、元件埋置和精細(xì)圖形制作等方向發(fā)展。
與普通印制電路板相比,微波印制電路板的基材主要采用聚四氟乙烯(PTFE)或者 增強(qiáng)型聚四氟乙烯。典型的材料有美國Rogers公司的DUROID材料系列。這類材料具有 較低的介質(zhì)損耗,在微波乃至毫米波頻段相關(guān)產(chǎn)品得到了廣泛的應(yīng)用。
在微波特種印制電路板上集成無源元件,可以縮短信號到無源元件的傳輸路徑,減少 寄生參數(shù)。由于取消了分立元件,取消了相關(guān)的連接工序,減少了大量焊點(diǎn),提高了電路板 可靠性。就目前的技術(shù)而言,將電阻集成在微波印制電路板上的工藝比較少見。
發(fā)明內(nèi)容
針對以上問題,本發(fā)明提供了一種微波印制電路板上電阻集成方法,采用埋置了電阻 材料的基材來實(shí)現(xiàn)印制電路板上電阻集成,也可將印制電路板基材表面改性,并采用二次光 刻的方式,可以將電阻元件埋置在微波印制電路板基材內(nèi),采用材料表面改性的方法可以將 薄膜工藝應(yīng)用于微波印制電路板,從而實(shí)現(xiàn)電阻的集成,采用含電阻層的材料并結(jié)合逐次層 壓工藝,可以制作出內(nèi)埋電阻的產(chǎn)品使其適合制作電阻,可以有效解決技術(shù)背景中的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:一種微波印制電路板上電阻集成方 法,采用埋置了電阻材料的基材,并通過二次光刻的方式,在聚四氟乙烯材料上實(shí)現(xiàn)集成電 阻,包括如下步驟:
(1)涂布光致抗蝕劑;
(2)曝光后,進(jìn)行顯影操作;
(3)選擇性腐蝕銅;
(4)選擇性腐蝕不需要的電阻材料;
(5)去除光致抗蝕劑;
(6)二次涂布光致抗蝕劑,并再次進(jìn)行曝光和顯影工序;
(7)腐蝕電阻上面的銅;
(8)去除二次涂布的光致抗蝕劑。
進(jìn)一步地,所述步驟(3)完成后,對基材表面采用蒸餾水清洗。
進(jìn)一步地,所述步驟(7)完成后,檢測銅,并清洗電阻表面。
進(jìn)一步地,所述電阻材料選擇10Ω、25Ω、50Ω、100Ω或250Ω的,典型方阻誤差 10-15%。
進(jìn)一步地,所述步驟(3)采用鹽酸溶液腐蝕銅。
進(jìn)一步地,所述步驟(7)采用氯化銨溶液腐蝕銅。
進(jìn)一步地,所述步驟(7)蝕刻的方式為對基板表面未被干膜覆蓋的銅箔采用酸性蝕刻 液體進(jìn)行蝕刻。
進(jìn)一步地,所述步驟(8)的去除方法為:采用超臨界二氧化碳和剝離劑化學(xué)藥品保持 與光致抗蝕劑或者光致抗蝕殘留物接觸,直到去除掉光致抗蝕劑或者光致抗蝕殘留物,然后 沖洗并放入風(fēng)干壓力室風(fēng)干。
進(jìn)一步地,所述風(fēng)干壓力室的溫度控制在35-40℃。
進(jìn)一步地,所述步驟(1)中光致抗蝕劑采用光交聯(lián)型光致抗蝕劑。
本發(fā)明的有益效果:
本發(fā)明采用埋置了電阻材料的基材來實(shí)現(xiàn)印制電路板上電阻集成,也可將印制電路板基材表 面改性,并采用二次光刻的方式,可以將電阻元件埋置在微波印制電路板基材內(nèi),采用材料 表面改性的方法可以將薄膜工藝應(yīng)用于微波印制電路板,從而實(shí)現(xiàn)電阻的集成,采用含電阻 層的材料并結(jié)合逐次層壓工藝,可以制作出內(nèi)埋電阻的產(chǎn)品使其適合制作電阻。
具體實(shí)施方式
為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合實(shí)施例,對本發(fā)明進(jìn) 行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限 定本發(fā)明。
實(shí)施例:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東莞聯(lián)橋電子有限公司,未經(jīng)東莞聯(lián)橋電子有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610051085.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





