[發明專利]一種微波印制電路板上電阻集成方法在審
| 申請號： | 201610051085.5 | 申請日： | 2016-01-25 |
| 公開（公告）號： | CN105517343A | 公開（公告）日： | 2016-04-20 |
| 發明（設計）人： | 廖根望 | 申請（專利權）人： | 東莞聯橋電子有限公司 |
| 主分類號： | H05K1/16 | 分類號： | H05K1/16 |
| 代理公司： | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 肖平安 |
| 地址： | 523380 *** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 微波 印制 電路板 電阻 集成 方法 | ||
1.一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：采用埋置了電阻材料的基材，并通過 二次光刻的方式，在聚四氟乙烯材料上實現集成電阻，包括如下步驟：
(1)涂布光致抗蝕劑；
(2)曝光后，進行顯影操作；
(3)選擇性腐蝕銅；
(4)選擇性腐蝕不需要的電阻材料；
(5)去除光致抗蝕劑；
(6)二次涂布光致抗蝕劑，并再次進行曝光和顯影工序；
(7)腐蝕電阻上面的銅；
(8)去除二次涂布的光致抗蝕劑。
2.根據權利要求1所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述步驟(3) 完成后，對基材表面采用蒸餾水清洗。
3.根據權利要求1所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述步驟(7) 完成后，檢測銅，并清洗電阻表面。
4.根據權利要求1所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述電阻材料 選擇10Ω、25Ω、50Ω、100Ω或250Ω的，典型方阻誤差10-15％。
5.根據權利要求1所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述步驟(3) 采用鹽酸溶液腐蝕銅。
6.根據權利要求1所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述步驟(7) 采用氯化銨溶液腐蝕銅。
7.根據權利要求1所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述步驟(7) 蝕刻的方式為對基板表面未被干膜覆蓋的銅箔采用酸性蝕刻液體進行蝕刻。
8.根據權利要求7所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述步驟(8) 的去除方法為：采用超臨界二氧化碳和剝離劑化學藥品保持與光致抗蝕劑或者光致抗蝕殘留 物接觸，直到去除掉光致抗蝕劑或者光致抗蝕殘留物，然后沖洗并放入風干壓力室風干。
9.根據權利要求8所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述風干壓力 室的溫度控制在35-40℃。
10.根據權利要求1所述的一種微波印制電路板上電阻集成方法，其特征在于：所述步驟(1) 中光致抗蝕劑采用光交聯型光致抗蝕劑。
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