[發(fā)明專利]二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610041525.9
• 申請(qǐng)日: 2016-01-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106996911B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-08-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許彬;張慧;楊世揚(yáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 名碩電腦(蘇州)有限公司;和碩聯(lián)合科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/17
• 分類號(hào): G01N21/17;G01N21/25;G01B11/06
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陳亮

1.一種二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法，以一二維相機(jī)利用一標(biāo)準(zhǔn)樣本來(lái)對(duì)一待測(cè)樣本進(jìn)行定位，其特征在于，該方法包括下列步驟：

(a)從該標(biāo)準(zhǔn)樣本中摘取至少一子模板；

(b)使用該至少一子模板匹配該待測(cè)樣本以取得對(duì)應(yīng)于該至少一子模板的至少一待測(cè)區(qū)域，并記錄對(duì)應(yīng)于該待測(cè)區(qū)域的一待測(cè)區(qū)域位置信息；

(c)從該至少一子模板中摘取至少一下階子模板；

(d)使用該至少一下階子模板去匹配該待測(cè)樣本的該待測(cè)區(qū)域，以取得對(duì)應(yīng)于該至少一下階子模板的至少一下階待測(cè)區(qū)域，并記錄對(duì)應(yīng)于該下階待測(cè)區(qū)域的一下階待測(cè)位置信息；

(e)當(dāng)該下階待測(cè)區(qū)域?yàn)橐淮郎y(cè)目標(biāo)區(qū)域時(shí)，則綜合該待測(cè)區(qū)域位置信息及該下階待測(cè)位置信息以決定該待測(cè)目標(biāo)區(qū)域的一相對(duì)位置信息；如該下階待測(cè)區(qū)域非該待測(cè)目標(biāo)模板，則重復(fù)進(jìn)行步驟(c)至(e)；

其中，步驟(b)更包括通過(guò)幾何坐標(biāo)與像素坐標(biāo)的轉(zhuǎn)換，把該至少一子模板的幾何位置信息映射到該待測(cè)樣本上，以取得對(duì)應(yīng)于該待測(cè)區(qū)域的該待測(cè)區(qū)域位置信息。

2.如權(quán)利要求1所述的二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法，其特征在于，步驟(a)包括：

使用該二維相機(jī)拍攝一待測(cè)標(biāo)準(zhǔn)物以取得該標(biāo)準(zhǔn)樣本；

摘取該標(biāo)準(zhǔn)樣本中信息量較大的區(qū)域作為一匹配區(qū)域；

記錄該匹配區(qū)域的位置信息；以及

自該匹配區(qū)域中摘取該至少一子模板。

3.如權(quán)利要求2所述的二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法，其特征在于，步驟(b)包括：

使用該二維相機(jī)拍攝一待測(cè)物以取得該待測(cè)樣本；以及

使用該至少一子模板去搜索該待測(cè)樣本中與該至少一子模板相似的區(qū)域，以作為該待測(cè)位置區(qū)域。

4.如權(quán)利要求3所述的二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法，其特征在于，該方法使用紅綠藍(lán)三色組合光照射于該待測(cè)樣本上，并通過(guò)判斷該待測(cè)樣本的反射光顏色來(lái)辨別該待測(cè)樣本上的錫膏位置是否有無(wú)錫膏。

5.如權(quán)利要求3所述的二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法，其特征在于，該方法利用使用紅綠藍(lán)三色組合光照射于該待測(cè)樣本上，并通過(guò)判斷該待測(cè)樣本上的錫膏的反射光顏色來(lái)辨別錫膏的厚度。

6.如權(quán)利要求2所述的二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法，其特征在于，步驟(a)包括：

確定該標(biāo)準(zhǔn)樣本中需檢測(cè)的目標(biāo)的一第一數(shù)目；

參考該第一數(shù)目對(duì)該標(biāo)準(zhǔn)樣本進(jìn)行一第一區(qū)域劃分；以及

依該第一區(qū)域劃分的結(jié)果從該標(biāo)準(zhǔn)樣本中摘取該至少一子模板。

7.如權(quán)利要求6所述的二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法，其特征在于，步驟(c)包括：

參考該第一數(shù)目對(duì)該至少一子模板進(jìn)行一第二區(qū)域劃分；以及

依該第二區(qū)域劃分的結(jié)果從該至少一子模板中摘取該至少一下階子模板。

8.如權(quán)利要求1所述的二維檢測(cè)錫膏印刷的定位方法，其特征在于，步驟(d)包括：

使用該至少一下階子模板去搜索該待測(cè)區(qū)域位置信息；以及

通過(guò)幾何坐標(biāo)與像素坐標(biāo)的轉(zhuǎn)換，把該至少一下階子模板的幾何位置信息映射到待測(cè)影像上，以取得對(duì)應(yīng)于該下階待測(cè)區(qū)域的該下階待測(cè)位置信息。