[發明專利]以TiO2為基體SnO2為種子層的CrO2材料及其制備方法有效
| 申請號: | 201610040224.4 | 申請日: | 2016-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN105540668B | 公開(公告)日: | 2017-06-16 |
| 發明(設計)人: | 盧志紅;郭芳;劉碩;袁成 | 申請(專利權)人: | 武漢科技大學 |
| 主分類號: | H01F41/22 | 分類號: | H01F41/22;C01G37/027 |
| 代理公司: | 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙)42222 | 代理人: | 張火春 |
| 地址: | 430081 *** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | tio sub 基體 sno 種子 cro 材料 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于CrO2材料技術領域。具體涉及一種以TiO2為基體SnO2為種子層的CrO2材料及其制備方法。
背景技術
近年來,自旋電子學是凝聚態物理和材料科學領域關注的焦點之一。作為最簡單的鐵磁性半金屬氧化物CrO2是傳統的磁記錄材料,CrO2經實驗證實具有接近100%的自旋極化率,而且CrO2的居里溫度高達396K。因此,CrO2被認為是極具開發潛力的、理想的自旋電子器件的電極材料之一。
CrO2在常溫常壓下是一種亞穩態氧化物,熱穩定性差,純的CrO2在400℃以上便開始分解為Cr2O3,導致了在常溫常壓條件下制備CrO2的難度增大。目前已經公開的制備CrO2的方法中,有直接以TiO2或者Si單晶基片為種子層制備CrO2,然而TiO2或者Si單晶基片直接作為種子層制備CrO2材料容易引入諸如Cr2O3或者其他Cr的氧化物等雜質相,同時其表面不光滑平整,從而難于得到高質量的CrO2材料。
發明內容
本發明旨在克服現有技術缺陷,目的是提供一種操作簡單和能產業化生產的以TiO2為基體SnO2為種子層的CrO2材料的制備方法;用該方法制備的以TiO2為基體SnO2為種子層的CrO2材料在磁性能基本不變的情況下純度高和表面光滑。
為實現上述目的,本發明所采用的技術方案的步驟是:
步驟一、將SnI4裝入石英舟內,放入雙溫區管式爐的低溫區,將TiO2單晶基片放入雙溫區管式爐的高溫區;然后在以100~300mL/min的流速向管式爐內通入氧氣的條件下,將高溫區加熱至350~450℃,開始保溫,同時對低溫區加熱,在100~200℃條件下保溫0.15~2h;自然冷卻,制得以TiO2為基體的SnO2種子層材料。
步驟一中的高溫區保溫截止時間與低溫區保溫截止時間相同。
步驟二、將CrO3裝入石英舟內,放入雙溫區管式爐的低溫區,再將第一步制得的以TiO2為基體的SnO2種子層材料放入雙溫區管式爐的高溫區,然后在以100~300mL/min的流速向管式爐內通入氧氣的條件下,將高溫區加熱至350~450℃,開始保溫,同時對低溫區加熱,在200~300℃條件下保溫0.2~5h,自然冷卻,即得以TiO2為基體SnO2為種子層的CrO2材料。
步驟二中的高溫區保溫截止時間與低溫區保溫截止時間相同。
所述的SnI4為分析純。
所述的CrO3為分析純。
所述的氧氣的純度為99.99%。
由于采用上述技術方案,本發明與現有技術相比,具有如下積極效果:
第一、本發明采用技術較為成熟的雙溫區管式爐,操作簡單,不增加設備,常壓下便能生產,故用雙溫區管式爐制備以TiO2為基體SnO2為種子層的CrO2材料能較快地實現產業化。
第二、以TiO2或者Si單晶基片為種子層直接制備CrO2材料容易引入雜質相,并且CrO2材料表面不光滑平整,質量差;而本發明制得的以TiO2為基體SnO2為種子層的CrO2材料純度高且表面光滑平整,質量得到了較大提高,應用范圍亦更加廣泛。
第三、與純的CrO2材料相比,本發明制備的以TiO2為基體SnO2為種子層的CrO2材料磁性能基本無改變。
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