[發(fā)明專利]曝光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610038639.8
• 申請(qǐng)日: 2016-01-21
• 公開（公告）號(hào): CN105549333B
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋燁
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強(qiáng)

本發(fā)明提供一種曝光裝置，包括顯示器和位于所述顯示器下方的凸透鏡組件，所述顯示器出射的光源經(jīng)所述凸透鏡組件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜經(jīng)曝光后形成有所述顯示器顯示的圖案。本發(fā)明中，以顯示器作為曝光裝置的光源，曝光時(shí)，將所需圖案顯示在顯示器上，經(jīng)過凸透鏡組件的轉(zhuǎn)化，在待曝光膜上即可形成所需圖案。經(jīng)過凸透鏡組件轉(zhuǎn)化投影到待曝光膜上的圖案具有高像素密度，可滿足待曝光膜上的圖案的要求。如此，無需掩膜版即可在待曝光膜上形成所需圖案，節(jié)省了生產(chǎn)成本，同時(shí)無需更換掩膜版，相應(yīng)地也提高了曝光效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種曝光裝置。

背景技術(shù)

曝光是微加工過程中一個(gè)必不可少的工藝，特別是在顯示行業(yè)，無論是電路的刻蝕，還是彩色濾光片的制作，都與曝光密切相關(guān)。

目前的曝光技術(shù)，通常是在待曝光膜(例如光刻膠)上方設(shè)置掩膜版，使曝光光線通過掩膜版后照射到待曝光膜上，從而在待曝光膜上形成所需要的目標(biāo)圖案。此種曝光工藝的缺陷是：一種掩膜版對(duì)應(yīng)一種圖案，更換圖案需要更換掩膜版。制作掩膜版的成本非常高，并且更換掩膜版會(huì)占用大量的時(shí)間，從而影響曝光效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種曝光裝置，不需要掩膜版即可在待曝光膜上形成所需圖案，可節(jié)省生產(chǎn)成本，以及提高曝光效率。

本發(fā)明提供一種曝光裝置，包括顯示器和位于所述顯示器下方的凸透鏡組件，所述顯示器出射的光源經(jīng)所述凸透鏡組件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜經(jīng)曝光后形成有所述顯示器顯示的圖案。

其中，所述顯示器為高像素密度的顯示器。

其中，所述凸透鏡組件包括至少一個(gè)凸透鏡。

其中，所述凸透鏡組件包括至少兩個(gè)沿縱向方向間隔設(shè)置的凸透鏡。

其中，所述凸透鏡組件包括至少一個(gè)凸透鏡，所述曝光裝置還包括至少一個(gè)光柵結(jié)構(gòu)，每一所述光柵結(jié)構(gòu)位于一個(gè)凸透鏡的下方。

其中，所述曝光裝置還包括殼體，所述凸透鏡組件設(shè)置于所述殼體內(nèi)。

其中，所述凸透鏡組件及所述至少一個(gè)光柵結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述殼體內(nèi)。

其中，所述殼體的內(nèi)側(cè)壁為黑色。

本發(fā)明中，以顯示器作為曝光裝置的光源，曝光時(shí)，將所需圖案顯示在顯示器上，經(jīng)過凸透鏡組件的轉(zhuǎn)化，在待曝光膜上即可形成所需圖案。經(jīng)過凸透鏡組件轉(zhuǎn)化投影到待曝光膜上的圖案具有高像素密度，可滿足待曝光膜上的圖案的要求。如此，無需掩膜版即可在待曝光膜上形成所需圖案，節(jié)省了生產(chǎn)成本，同時(shí)無需更換掩膜版，相應(yīng)地也提高了曝光效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明第一實(shí)施方式中曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施方式中在待曝光膜上形成所需圖案的示意圖；以及

圖3為本發(fā)明第二實(shí)施方式中曝光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。