[發明專利]曝光裝置

有效

• 申請號: 201610038639.8
• 申請日: 2016-01-21
• 公開（公告）號: CN105549333B
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發明（設計）人: 宋燁
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種曝光裝置，其特征在于，包括顯示器和位于所述顯示器下方的凸透鏡組件，所述顯示器出射的光源經所述凸透鏡組件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜經曝光后形成有所述顯示器顯示的圖案，所述凸透鏡組件包括至少一個凸透鏡，所述曝光裝置還包括至少一個光柵結構，每一所述光柵結構位于一個凸透鏡的下方，所述曝光裝置還包括殼體，所述凸透鏡組件及所述至少一個光柵結構設置于所述殼體內，所述殼體用于吸收周圍環境的光線。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述顯示器為高像素密度的顯示器。

3.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述凸透鏡組件包括至少一個凸透鏡。

4.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述凸透鏡組件包括至少兩個沿縱向方向間隔設置的凸透鏡。

5.如權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述殼體的內側壁為黑色。