[發明專利]一種軟巖地層暗挖大斷面隧道施工方法有效
| 申請號： | 201610035495.0 | 申請日： | 2016-01-20 |
| 公開（公告）號： | CN105604576B | 公開（公告）日： | 2018-08-21 |
| 發明（設計）人： | 劉建偉;盧致強;廖靜宇;劉衛華;譚萬忠;張戈;賈飛宇;高雄鷹 | 申請（專利權）人： | 中鐵隆工程集團有限公司 |
| 主分類號： | E21D11/00 | 分類號： | E21D11/00;E21D11/38;E21D11/28;E21D21/00 |
| 代理公司： | 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 謝敏 |
| 地址： | 610000 四川省成都市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 地層 暗挖大 斷面 隧道 施工 方法 支護 體系 | ||
1.一種軟巖地層暗挖大斷面隧道施工方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1：在拱部中心處上部開挖拱部小導洞，拱部小導洞初期支護，拱部小導洞內設置拱頂豎向支撐體系；拱頂豎向支撐體系包括鋼管支撐和型鋼縱梁，施工步驟包括：
步驟1a：在拱部小導洞內采用人工挖孔樁施工至核心巖墻頂部；
步驟1b：在人工挖孔樁內下放鋼管支撐，所述鋼管支撐貫穿人工挖孔樁和拱部小導洞，鋼管支撐頂部通過型鋼縱梁支撐拱頂，鋼管支撐底部設置活絡端；
步驟2：分五部分依次開挖左上、左中、右上、左下、右下導坑，各導坑初期支護，預留核心巖墻；
步驟3：敷設防水層，澆筑左、右兩側仰拱混凝土和仰拱回填；
步驟4：敷設防水層，澆筑隧道拱部和側墻二次襯砌；
步驟5：拆除拱頂豎向支撐體系，開挖核心巖墻；
步驟6：敷設仰拱防水層，澆筑仰拱混凝土和仰拱回填。
2.根據權利要求1所述軟巖地層暗挖大斷面隧道施工方法，其特征在于：所述拱頂豎向支撐體系還包括獨立基礎，所述鋼管支撐底部位于獨立基礎上，所述獨立基礎位于所述人工挖孔樁底部。
3.根據權利要求1所述軟巖地層暗挖大斷面隧道施工方法，其特征在于：所述步驟1還包括：
步驟1c：用粗砂回填所述人工挖孔樁。
4.根據權利要求1～3任一項所述軟巖地層暗挖大斷面隧道施工方法，其特征在于：所述步驟2中側墻初期支護通過水平橫撐和側墻錨桿加固。
5.根據權利要求1～3任一項所述軟巖地層暗挖大斷面隧道施工方法，其特征在于：所述步驟2中核心巖墻兩側壁通過鋼架噴砼和對拉錨桿加固。
6.根據權利要求1～3任一項所述軟巖地層暗挖大斷面隧道施工方法，其特征在于：在所述仰拱上與所述側墻初期支護連接處設置有凹槽，所述側墻初期支護底部嵌固于所述凹槽內。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中鐵隆工程集團有限公司，未經中鐵隆工程集團有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610035495.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：橋梁隧道加固構件插片式灌漿裝置及灌漿方法
- 下一篇：二氧化碳致裂器
