[發(fā)明專利]一種儲存穩(wěn)定的感光干膜及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610034685.0
• 申請日: 2016-01-19
• 公開（公告）號: CN105676593B
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發(fā)明（設計）人: 韓傳龍;李偉杰;嚴曉慧;李志強;黃森彪;周光大;林建華
• 申請（專利權）人: 杭州福斯特應用材料股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司 33200
• 代理人: 邱啟旺

本發(fā)明提供一種儲存穩(wěn)定的感光干膜及其制備方法，所述感光干膜依次由支撐膜層、抗蝕劑層和保護膜層構成。其中，支撐膜層為雙面熱封型PET，具有三層結構，由兩層共聚酯PETG層和位于兩層共聚酯PETG層之間的PET樹脂層組成，克服了常規(guī)PET膜熱封性能差的缺點。通過加熱分切，使得切口處的支撐膜、抗蝕劑和保護膜快速熱封，形成寬度為0.1?2.0mm的熱封層，這樣可以防止抗蝕劑層發(fā)生冷流，抑制邊沿流膠，阻隔氧氣和水汽破壞，得到儲存穩(wěn)定的干膜成品。另外，即使在加熱條件下進行分切，也不會降低干膜的分辨率等性能。

技術領域

本發(fā)明涉及一種具有多層結構的感光干膜，以及干膜的制備方法。

技術背景

在印刷電路板、引線框架、半導體封裝(如球柵陣列封裝、芯片尺寸封裝)、金屬掩膜制造等領域中，感光干膜常被用作圖形轉移的臨時性保護材料。例如，在制造印刷電路板時，首先，在銅基板上貼合干膜抗蝕劑，用具有一定圖案的掩模遮蓋在感光干膜上，進行圖形曝光。然后，利用弱堿性水溶液作為顯影液去除未曝光部位，再實施蝕刻或電鍍處理而形成圖形。最后剝離去除干膜固化部分，從而實現(xiàn)圖形轉移。

通常情況，感光干膜由三層結構構成，分別是支撐膜層、抗蝕劑層、保護膜層。其中，支撐膜層和保護膜層主要功能是承載和保護位于中間的抗蝕劑層。然而，感光干膜在儲存和運輸過程中，很容易出現(xiàn)儲存穩(wěn)定性差的問題，常見的現(xiàn)象是發(fā)生冷流，即抗蝕劑層中的抗蝕劑容易被支撐膜和保護膜“擠壓”出去，導致抗蝕劑層出現(xiàn)厚薄不均勻，在后續(xù)圖形轉移過程中，電路圖形容易發(fā)生斷路等不良情況。嚴重的情況下，成卷干膜兩端流出的抗蝕劑會粘連到一起，使用的時候很難打開。

為了提高感光干膜的儲存穩(wěn)定性，人們做了很多的努力，專利文獻US 3,867,153提出，在感光干膜兩端很窄的邊沿區(qū)域進行光固化處理，從而阻止抗蝕劑從兩端流出，提高儲存穩(wěn)定性。如果該方法可行，將會使生產(chǎn)的過程變得復雜，降低企業(yè)生產(chǎn)效率。專利文獻US 4,293,635中提到，通過(1)減小抗蝕劑中單體或者增塑劑的用量，(2)提高抗蝕劑中樹脂的分子量，可以減小冷流傾向，延長儲存時間，但是這會降低光聚合速度，延長曝光時間，并且增加顯影時間，降低生產(chǎn)效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種儲存穩(wěn)定的感光干膜及其制備方法。

本發(fā)明的目的是通過以下技術方案實現(xiàn)的：一種儲存穩(wěn)定的感光干膜，由感光干膜經(jīng)加熱分切后得到，所述感光干膜依次由支撐膜層、干膜抗蝕劑層和保護膜層構成。其中，支撐膜層為雙面熱封型PET，具有三層結構，由兩層共聚酯PETG層和位于兩層共聚酯PETG層之間的PET樹脂層組成；所述保護膜層為聚乙烯薄膜層。

進一步地，所述共聚酯PETG層由對苯二甲酸二甲酯(DMT)、乙二醇(EG)和新戊二醇(NPG)三種單體縮聚而成。

進一步地，所述雙面熱封型PET透光率大于90％，霧度小于3％。

進一步地，所述雙面熱封型PET可以在120-300℃進行熱封。

一種儲存穩(wěn)定的感光干膜制備方法，包括以下步驟：

(1)干膜溶液配制：將50-70重量份的堿溶性樹脂、15-45重量份的單體、0.5-10重量份的光引發(fā)劑、0.5-9重量份的添加劑、30-70重量份的溶劑混合均勻，得到干膜溶液；

(2)涂布與烘干：將步驟(1)得到的干膜溶液均勻涂布在雙面熱封型PET表面，通過溫度為70℃左右的烘道將其烘干，形成干膜抗蝕劑層。

(3)貼合保護膜：在抗蝕劑層表面貼合聚乙烯薄膜，獲得三層結構的感光干膜。

(4)加熱分切干膜：將分切圓刀預先加熱到100-600℃，對步驟(3)獲得的感光干膜進行加熱分切，使得切口處快速熱封，形成寬度為0.1-2.0mm的熱封層，得到儲存穩(wěn)定的感光干膜。