[發(fā)明專利]光阻涂布裝置及光阻涂布方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610033569.7 | 申請(qǐng)日: | 2016-01-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105457843A | 公開(公告)日: | 2016-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B05C5/02 | 分類號(hào): | B05C5/02;B05C11/02;G03F7/16 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光阻涂布 裝置 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示面板的制造領(lǐng)域,尤其涉及一種光阻涂布裝置及光阻涂布方法。
背景技術(shù)
薄膜晶體管液晶顯示裝置(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay,TFT-LCD)具有機(jī)身薄、省電、無輻射等眾多優(yōu)點(diǎn),得到了廣泛的應(yīng)用?,F(xiàn)有市場上的液晶顯示裝置大部分為背光型液晶顯示裝置,其包括液晶顯示面板及背光模組(backlightmodule)。通常液晶顯示面板由彩膜(CF,ColorFilter)基板、TFT陣列基板、夾于彩膜基板與TFT陣列基板之間的液晶(LC,LiquidCrystal)及密封框膠(Sealant)組成;其成型工藝一般包括:前段陣列(Array)制程與CF制程(薄膜、黃光、蝕刻及剝膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT陣列基板與CF基板貼合)及后段模組組裝(Module)制程(驅(qū)動(dòng)IC與印刷電路板壓合);其中,前段Array制程主要是形成TFT基板,以便于控制液晶分子的運(yùn)動(dòng);前段CF制程主要是形成CF基板;中段Cell制程主要是在TFT基板與CF基板之間添加液晶;后段模組組裝制程主要是驅(qū)動(dòng)IC壓合與印刷電路板的整合,進(jìn)而驅(qū)動(dòng)液晶分子轉(zhuǎn)動(dòng),顯示圖像。
CF基板是LCD用來實(shí)現(xiàn)彩色顯示的主要器件,其基本構(gòu)成通常包括:玻璃基板、黑色矩陣(BlackMatrix,BM)、彩色色阻層等等。背光源發(fā)出的光經(jīng)過液晶分子的調(diào)制入射到CF基板,通過CF基板上彩色色阻層的紅色色阻、綠色色阻、以及藍(lán)色色阻的濾光作用,分別顯示紅,綠,藍(lán)三種光線,不同顏色的色阻分別透射對(duì)應(yīng)顏色波段的光,從而實(shí)現(xiàn)顯示器的彩色顯示。在CF制程當(dāng)中,包括光阻涂布、曝光、顯影等制程,其中,光阻涂布無疑是最為重要的一個(gè)環(huán)節(jié),光阻涂布的均勻性以及光阻的厚度對(duì)于顯示效果都有很重要的影響。
傳統(tǒng)的光阻涂布方式為:如圖1所示,首先將涂布噴頭500與放置在承載臺(tái)200上的基板100進(jìn)行對(duì)位,涂布噴頭500上設(shè)有與基板100的寬度相對(duì)應(yīng)的狹縫噴嘴510;然后,如圖2所示,控制所述涂布噴頭500上的狹縫噴嘴510吐膠,在基板100上形成橫跨基板100的光阻束(beam)110’;之后,如圖3所示,通過水平牽引的方式使涂布噴頭500在基板100上方水平移動(dòng),在基板100表面形成整面的光阻圖層,得到光阻層110;該光阻涂布方式雖然在膜厚均勻性方面有優(yōu)勢,但是整體的生產(chǎn)時(shí)間(Tacttime)卻是隨著玻璃基板的尺寸增大而逐漸增加的,因此對(duì)于產(chǎn)能的提升沒有幫助。
因此,有必要提供一種光阻涂布裝置及光阻涂布方法,以解決上述問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種光阻涂布裝置,噴頭本體的底面上設(shè)有緊密地陣列排布的數(shù)個(gè)針狀的吐膠噴嘴,能夠?qū)暹M(jìn)行垂直整面吐膠,保證吐膠均勻性以及膜厚穩(wěn)定性,降低光阻涂布制程的生產(chǎn)時(shí)間。
本發(fā)明的目的還在于提供一種光阻涂布方法,采用垂直整面吐膠的方式進(jìn)行,保證吐膠均勻性以及膜厚穩(wěn)定性,降低光阻涂布制程的生產(chǎn)時(shí)間。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明提供一種光阻涂布裝置,用于在基板上涂布光阻膜層,包括涂布噴頭;所述涂布噴頭包括噴頭本體、及陣列排布于所述噴頭本體底面上的數(shù)個(gè)針狀的吐膠噴嘴;
所述噴頭本體用于容納光阻膠,使用時(shí),數(shù)個(gè)吐膠噴嘴同時(shí)從豎直方向上向水平放置的基板進(jìn)行吐膠,在重力以及表面張力作用下光阻膠在基板的表面上自然流平而形成薄膜,通過吐膠噴嘴不斷吐膠而使薄膜的厚度增加。
所述光阻涂布裝置還包括設(shè)于所述噴頭本體底面上的厚度檢測器,用于量測在所述基板上形成薄膜的厚度。
所述厚度檢測器為激光感測器。
所述光阻涂布裝置還包括控制機(jī)構(gòu),所述厚度檢測器將量測結(jié)果實(shí)時(shí)反饋給所述控制機(jī)構(gòu),當(dāng)在基板表面上形成的薄膜的厚度達(dá)到預(yù)定范圍時(shí),所述控制機(jī)構(gòu)控制所述數(shù)個(gè)吐膠噴嘴停止吐膠。
本發(fā)明還提供一種光阻涂布方法,包括如下步驟:
步驟1、提供光阻涂布裝置及待涂布的基板,將所述基板放置于承載臺(tái)上,并將光阻涂布裝置與所述基板進(jìn)行對(duì)位;
所述光阻涂布裝置包括涂布噴頭;所述涂布噴頭包括噴頭本體、及陣列排布于所述噴頭本體底面上的數(shù)個(gè)針狀的吐膠噴嘴;所述噴頭本體內(nèi)容納有光阻膠,對(duì)位后,所述數(shù)個(gè)吐膠噴嘴對(duì)應(yīng)的位于所述基板的正上方;
調(diào)整噴頭本體與所述基板之間的距離;
步驟2、數(shù)個(gè)吐膠噴嘴同時(shí)從豎直方向上向水平放置的基板進(jìn)行吐膠,在重力以及表面張力作用下光阻膠在基板的表面上自然流平而形成薄膜,通過吐膠噴嘴不斷吐膠而使薄膜的厚度增加;
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