[發(fā)明專利]光阻涂布裝置及光阻涂布方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201610033569.7
• 申請日: 2016-01-18
• 公開（公告）號: CN105457843A
• 公開（公告）日: 2016-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王雷
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05C11/02;G03F7/16
• 代理公司: 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種光阻涂布裝置，用于在基板(10)上涂布光阻膜層，包括涂布噴頭，其特征在于，所述涂布噴頭包括噴頭本體(50)、及陣列排布于所述噴頭本體(50)底面上的數(shù)個(gè)針狀的吐膠噴嘴(51)；

所述噴頭本體(50)用于容納光阻膠，使用時(shí)，數(shù)個(gè)吐膠噴嘴(51)同時(shí)從豎直方向上向水平放置的基板(10)進(jìn)行吐膠，在重力以及表面張力作用下光阻膠在基板(10)的表面上自然流平而形成薄膜，通過吐膠噴嘴(51)不斷吐膠而使薄膜的厚度增加。

2.如權(quán)利要求1所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述光阻涂布裝置還包括設(shè)于所述噴頭本體(50)底面上的厚度檢測器(52)，用于量測在所述基板(10)上形成薄膜的厚度。

3.如權(quán)利要求2所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述厚度檢測器(52)為激光感測器。

4.如權(quán)利要求2所述的光阻涂布裝置，其特征在于，所述光阻涂布裝置還包括控制機(jī)構(gòu)，所述厚度檢測器(52)將量測結(jié)果實(shí)時(shí)反饋給所述控制機(jī)構(gòu)，當(dāng)在基板(10)表面上形成的薄膜的厚度達(dá)到預(yù)定范圍時(shí)，所述控制機(jī)構(gòu)控制所述數(shù)個(gè)吐膠噴嘴(51)停止吐膠。

5.一種光阻涂布方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1、提供光阻涂布裝置及待涂布的基板(10)，將所述基板(10)放置于承載臺(20)上，并將光阻涂布裝置與所述基板(10)進(jìn)行對位；

所述光阻涂布裝置包括涂布噴頭；所述涂布噴頭包括噴頭本體(50)、及陣列排布于所述噴頭本體(50)底面上的數(shù)個(gè)針狀的吐膠噴嘴(51)；所述噴頭本體(50)內(nèi)容納有光阻膠，對位后，所述數(shù)個(gè)吐膠噴嘴(51)對應(yīng)的位于所述基板(10)的正上方；

調(diào)整噴頭本體(50)與所述基板(10)之間的距離；

步驟2、數(shù)個(gè)吐膠噴嘴(51)同時(shí)從豎直方向上向水平放置的基板(10)進(jìn)行吐膠，在重力以及表面張力作用下光阻膠在基板(10)的表面上自然流平而形成薄膜，通過吐膠噴嘴(51)不斷吐膠而使薄膜的厚度增加；

步驟3、當(dāng)在基板(10)表面上形成的薄膜的厚度達(dá)到預(yù)定范圍時(shí)，控制數(shù)個(gè)吐膠噴嘴(51)停止吐膠，得到基板(10)表面上的光阻層(11)，將噴頭本體(11)向上移動(dòng)以遠(yuǎn)離所述基板(10)，從而完成光阻涂布。

6.如權(quán)利要求5所示的光阻涂布方法，其特征在于，所述基板(10)為玻璃基板，所述步驟3得到的具有光阻層(11)的基板(10)用于形成液晶顯示面板的彩膜基板。

7.如權(quán)利要求5所示的光阻涂布方法，其特征在于，所述光阻涂布噴頭還包括設(shè)于所述噴頭本體(50)底面上的厚度檢測器(52)，用于量測在所述基板(10)上形成薄膜的厚度。

8.如權(quán)利要求7所示的光阻涂布方法，其特征在于，所述厚度檢測器(52)為激光感測器。

9.如權(quán)利要求7所示的光阻涂布方法，其特征在于，所述光阻涂布裝置還包括控制機(jī)構(gòu)，所述厚度檢測器(52)將量測結(jié)果實(shí)時(shí)反饋給所述控制機(jī)構(gòu)，當(dāng)在基板(10)表面上形成的薄膜的厚度達(dá)到預(yù)定范圍時(shí)，所述步驟3中，所述控制機(jī)構(gòu)控制所述數(shù)個(gè)吐膠噴嘴(51)停止吐膠。

10.如權(quán)利要求9所示的光阻涂布方法，其特征在于，通過所述控制機(jī)構(gòu)控制所述噴頭本體(50)的移動(dòng)，以控制所述噴頭本體(50)與所述基板(10)之間的距離。