[發明專利]一種基于導電涂層的陣列式微等離子體發生裝置在審
| 申請號: | 201610031913.9 | 申請日: | 2016-01-18 |
| 公開(公告)號: | CN105491774A | 公開(公告)日: | 2016-04-13 |
| 發明(設計)人: | 劉東平;彭一峰;夏洋;徐博深;齊志華 | 申請(專利權)人: | 大連民族大學 |
| 主分類號: | H05H1/24 | 分類號: | H05H1/24 |
| 代理公司: | 大連一通專利代理事務所(普通合伙) 21233 | 代理人: | 秦少林 |
| 地址: | 116600 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 導電 涂層 陣列 式微 等離子體 發生 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及等離子體放電領域,尤其是一種基于導電涂層的等離子體放電 裝置。
背景技術
目前,大氣壓非平衡等離子體放電一直是生物學、醫學、農學上消毒殺菌 領域的研究熱點。其中,陣列式微等離子體放電產生大面積均勻的等離子體更 是受到世界專家學者的廣泛關注。已知,陣列式微等離子體放電裝置的結構以 及放電的穩定性等決定了產生等離子體的密度、活性物種的種類、活性物質的 濃度等多種因素。但是,現有的陣列式等離子體放電裝置普遍存在產生等離子 體不均勻、使用效率低、放電要求高,放電結構設計復雜等問題,無法滿足人 們的需求。
綜上所述,現有陣列式等離子體放電裝置無法滿足對于產生大面積均勻等 離子體的需求,需要一種新的陣列式微等離子體放電裝置。
發明內容
本發明目的在于提供一種均勻性好、結構精巧、成本低廉、操作簡單的基 于導電涂層的陣列式微等離子體發生裝置。
為實現上述目的,采用了以下技術方案:本發明主要包括絕緣外殼、進氣 管、高壓電源以及地電極,所述絕緣外殼為圓筒形結構,絕緣外殼一端封口、 另一端開口,在封口端相通連接進氣管;在絕緣外殼的中部徑向安裝一塊圓板 形均流板,在均流板上均勻開設均流孔;在均流板下方安裝介質板A和介質板 B,且介質板A和介質板B之間留有空間,在介質板A和介質板B表面上下對 應的開設插孔,在兩塊介質板的每組上下對應的插孔中安插固定絕緣介質管, 該絕緣介質管為上下開口的管體結構;在介質板A的上表面設有一層導電涂層 A,導電涂層A通過導線與高壓電源相接;在介質板B的下表面設有一層導電 涂層B,導電涂層B通過導線與地電極相接。
進一步的,絕緣介質管的底端口處于介質板B的下方,且與絕緣外殼的開 口端齊平或處于開口端之內。
進一步的,所述導電涂層A、B為石墨或納米銀薄膜或納米鋁薄膜。
進一步的,所述導電涂層A、B的厚度為300~500微米。
進一步的,所述絕緣介質管由石英或陶瓷或聚四氟乙烯材料制成。
進一步的,所述介質板A、B由有機玻璃或聚四氟乙烯或石英材料制成。
進一步的,所述絕緣介質管的內徑為100~300微米。
進一步的,所述高壓電源為交流電源,電壓峰峰值調節范圍為0~20KV, 頻率調節范圍為1~30KHz。
進一步的,所述高壓電源為脈沖電源,電壓峰峰值調節范圍為0~15KV, 頻率調節范圍為1~10KHz。
進一步的,所述均流板上的均流孔按照陣列式規律均勻分布。
工作過程大致如下:
工作氣體順著進氣管進入絕緣外殼,通過均流板的均流孔均流作用后通入 下方放電區域中。導電涂層B通過導線連接地電極,導電涂層A通過導線與高 壓電源連通后構成高壓供電部分,高壓電源提供合適的頻率和放電電壓,在介 質板A和介質板B的區域形成放電區域。當工作氣體順著絕緣介質管流經放電 區域時,工作氣體被電離從而產生大面積均勻的等離子體,并產生大量活性物 質,如OH自由基、激發態氦原子、氧原子、臭氧等。最終,被電離的工作氣體 帶著大量活性物質從絕緣外殼的開口端噴出形成射流,可進行殺菌消毒工作。
與現有技術相比,本發明具有如下優點:
1、采用在大氣壓下的介質阻擋放電技術,產生大面積的均勻的低溫等離子 體射流,放電溫度低,面積大,均勻性好。
2、與傳統針-環式等離子體放電裝置相比,此裝置結構更為精妙,安裝更為 簡單,可實現放電電極與絕緣介質管的緊密貼合。
3、具有均流設計,保證工作氣體充分均勻傳播,提高放電的均勻性。
附圖說明
圖1為本發明的整體結構剖面圖。
圖2為本發明的仰視圖。
圖3為本發明實施例1的實驗效果圖。
圖4為本發明實施例2的實驗效果圖。
附圖標號:1為絕緣外殼、2為進氣管、3為高壓電源、4為地電極、5為均流板、 6為均流孔、7為介質板A、8為介質板B、9為絕緣介質管、10為導電涂層A、 11為導電涂層B。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明做進一步說明:
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