[發明專利]一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的方法和裝置

在審

• 申請號: 201610024227.9
• 申請日: 2016-01-14
• 公開（公告）號: CN105674756A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 張峰
• 申請（專利權）人: 彩虹顯示器件股份有限公司
• 主分類號: F27D17/00
• 分類號: F27D17/00;B01D53/75;B01D53/90;B01D53/79;B01D53/56;B01D53/00;B01D46/02
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 陸萬壽

【技術領域】

本發明屬于玻璃窯爐廢氣處理領域，特別涉及一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的方法和 裝置。

【背景技術】

TFT玻璃燒制過程在玻璃成分中添加B₂O₃作為促溶劑以降低玻璃制造溫度，但是B₂O₃在高溫下容易揮發，隨廢氣排出窯爐，在低溫的時候又發生凝結，影響了排煙設備的正常運行， 因為B₂O₃的溶解溫度是450℃，液晶玻璃燒制溫度是1500-1650℃，這會造成部分B₂O₃的揮 發。玻璃窯爐煙氣溫度為800-1000℃，此時B₂O₃以液態形式存在，在煙氣溫度降低到325℃ 以下時變為固態B₂O₃或焦硼酸。在煙氣降溫的過程中，可能會生成偏硼酸。煙氣繼續降溫到 176℃以下，偏硼酸為固體狀態，在有水存在的情況下，逐漸生成硼酸固體，水量大的話會形 成硼酸溶液。

BaO具有增加玻璃耐化學穩定性和提高玻璃抗析晶的作用，所以玻璃燒制過程引入硝酸鋇 成份，硝酸鋇分解產生的氧化鋇存留于玻璃中，而分解產生的氮氧化物隨氣體排出，NO₂的分 解在溫度高于150℃時開始分解為NO和O₂，所以燒制過程排放的氮氧化物為NO。

因此玻璃窯爐煙氣中污染物主要是NO和B₂O₃，還有部分配合料粉塵，煙氣處理的主要 任務就是脫硝和除硼。

目前有SNCR+濕法除硼的煙氣處理方法。該方法脫硝效率低，能力不穩定，基本不能達 到國家標準；在SNCR段噴入尿素溶液，罐體底部溫度下降到650℃左右，在這個溫度下煙氣 中配合料和B₂O₃混合在一起生成塊狀物，造成SNCR罐體底部堵塞，難清理且影響窯爐工藝。

【發明內容】

本發明的目的在于克服現有技術中存在的問題，提供一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的 方法和裝置，能夠有效除掉窯爐廢氣中各種形態的硼以及氮氧化物。

為了達到上述目的，本發明采用如下技術方案：

包括依次連通的冷卻罐、除塵箱、燃燒室和SCR反應單元，其中，冷卻罐的底部開設用 于排出配合料和氧化硼的第一排出口；冷卻罐上開設有第一廢氣入口、第一廢氣出口和冷卻介 質入口，第一廢氣出口與除塵箱相連通；除塵箱內設置有除塵裝置；燃燒室上開設有空氣入口、 天然氣入口和還原劑入口。

進一步地，第一廢氣入口和冷卻介質入口均位于冷卻罐的頂部；冷卻罐的下部為倒錐形結 構，倒錐形結構的下側設置第一料斗，第一排出口開設在倒錐形底部且與第一料斗相連通；第 一廢氣出口開設在倒錐形結構的側壁上；倒錐形結構的側壁外部設置有加熱器。

進一步地，冷卻罐的側壁上設置有若干個上下分布的清理孔。

進一步地，除塵裝置包括設置在除塵箱內的若干層布袋，除塵箱上開設有第二廢氣入口和 第二廢氣出口，且第二廢氣入口位于布袋的下側，第二廢氣出口位于布袋的上側；除塵箱的頂 部設置有用于吹落吸附在布袋下側的殘余顆粒狀物質的反吹設備，反吹設備吹出的氣體方向與 窯爐廢氣流動方向相反；除塵箱的下側設置第二料斗，除塵箱的底部設置用于排出殘余顆粒狀 物質的第二排出口，第二排出口和第二料斗相連通。

進一步地，空氣入口和天然氣入口均位于燃燒室的頂部；還原劑入口呈環形分布在燃燒室 下部側壁上或底部上；燃燒室上開設有第三廢氣入口和第三廢氣出口，其中，第三廢氣入口位 于燃燒室的上部側壁上，第三廢氣出口位于燃燒室的下部側壁上。

進一步地，冷卻罐和燃燒室的外側均設置有保溫層。

本發明窯爐廢氣處理的方法的技術方案是：包括以下步驟：

a)窯爐廢氣進入冷卻罐，同時向冷卻罐中通入冷卻介質，冷卻介質與窯爐廢氣混合，窯 爐廢氣中的B₂O₃和配合料在冷卻介質的冷卻作用下沉積到冷卻罐的底部，完成除硼；

b)經過除硼的窯爐廢氣進入除塵箱，并通過除塵箱內的除塵裝置過濾除去窯爐廢氣中的 殘余顆粒狀物質，完成除塵；