[發明專利]一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的方法和裝置

在審

• 申請號: 201610024227.9
• 申請日: 2016-01-14
• 公開（公告）號: CN105674756A
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 張峰
• 申請（專利權）人: 彩虹顯示器件股份有限公司
• 主分類號: F27D17/00
• 分類號: F27D17/00;B01D53/75;B01D53/90;B01D53/79;B01D53/56;B01D53/00;B01D46/02
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責任公司 61200
• 代理人: 陸萬壽

1.一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的裝置，其特征在于，包括依次連通的冷卻罐(10)、 除塵箱(20)、燃燒室(30)和SCR反應單元(40)，其中，冷卻罐(10)的底部開設用于排 出配合料和氧化硼的第一排出口；冷卻罐(10)上開設有第一廢氣入口(14)、第一廢氣出口 和冷卻介質入口(11)，第一廢氣出口與除塵箱(20)相連通；除塵箱(20)內設置有除塵裝 置；燃燒室(30)上開設有空氣入口(31)、天然氣入口(32)和還原劑入口(33)。

2.根據權利要求1所述的一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的裝置，其特征在于，第一廢 氣入口(14)和冷卻介質入口(11)均位于冷卻罐(10)的頂部；冷卻罐(10)的下部為倒錐 形結構，倒錐形結構的下側設置第一料斗(15)，第一排出口開設在倒錐形底部且與第一料斗 (15)相連通；第一廢氣出口開設在倒錐形結構的側壁上；倒錐形結構的側壁外部設置有加熱 器(12)。

3.根據權利要求1所述的一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的裝置，其特征在于，冷卻罐 (10)的側壁上設置有若干個上下分布的清理孔(13)。

4.根據權利要求1所述的一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的裝置，其特征在于，除塵裝 置包括設置在除塵箱(20)內的若干層布袋(22)，除塵箱(20)上開設有第二廢氣入口和第 二廢氣出口，且第二廢氣入口位于布袋(22)的下側，第二廢氣出口位于布袋(22)的上側； 除塵箱(20)的頂部設置有用于吹落吸附在布袋(22)下側的殘余顆粒狀物質的反吹設備(21)， 反吹設備(21)吹出的氣體方向與窯爐廢氣流動方向相反；除塵箱(20)的下側設置第二料斗 (23)，除塵箱(20)的底部設置用于排出殘余顆粒狀物質的第二排出口，第二排出口和第二 料斗(23)相連通。

5.根據權利要求1所述的一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的裝置，其特征在于，空氣入 口(31)和天然氣入口(32)均位于燃燒室(30)的頂部；還原劑入口(33)呈環形分布在燃 燒室下部側壁上或底部上；燃燒室(30)上開設有第三廢氣入口和第三廢氣出口，其中，第三 廢氣入口位于燃燒室(30)的上部側壁上，第三廢氣出口位于燃燒室(30)的下部側壁上。

6.根據權利要求1所述的一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的裝置，其特征在于，冷卻罐 (10)和燃燒室(30)的外側均設置有保溫層。

7.一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的方法，其特征在于，包括以下步驟：

a)窯爐廢氣進入冷卻罐(10)，同時向冷卻罐(10)中通入冷卻介質，冷卻介質與窯爐廢 氣混合，窯爐廢氣中的B₂O₃和配合料在冷卻介質的冷卻作用下沉積到冷卻罐(10)的底部， 完成除硼；

b)經過除硼的窯爐廢氣進入除塵箱(20)，并通過除塵箱(20)內的除塵裝置過濾除去窯 爐廢氣中的殘余顆粒狀物質，完成除塵；

c)經過除塵的窯爐廢氣進入燃燒室(30)，并向燃燒室(30)中通入空氣和天然氣進行混 合燃燒，對除塵的窯爐廢氣進行加熱，同時向燃燒室(30)中噴入還原劑，發生非催化還原反 應去除窯爐廢氣中的部分氮氧化物；

d)去除部分氮氧化物的窯爐廢氣進入SCR反應單元(40)反應，去除剩余的氮氧化物后， 達到排放標準，完成TFT玻璃基板窯爐廢氣的處理。

8.根據權利要求7所述的一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的方法，其特征在于，步驟a) 中的冷卻介質采用霧化的軟化水。

9.根據權利要求7所述的一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的方法，其特征在于，冷卻罐 (10)排出的經過除硼的窯爐廢氣溫度為200～300℃。

10.根據權利要求7所述的一種TFT玻璃基板窯爐廢氣處理的方法，其特征在于，步驟c) 中對除塵的窯爐廢氣進行加熱到850℃以上，燃燒室(30)的第三廢氣出口處的廢氣溫度大于 350℃。