[發(fā)明專利]中介層嵌置于加強層中的線路板及其制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610023302.X | 申請日: | 2016-01-14 |
| 公開(公告)號: | CN105789058A | 公開(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 林文強;王家忠 | 申請(專利權)人: | 鈺橋半導體股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/48 | 分類號: | H01L21/48;H01L21/60;H01L23/488;H01L23/52;H01L23/12;H01L23/14;H05K3/00;H05K1/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 中國臺灣臺北*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 中介 置于 加強 中的 線路板 及其 制作方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種線路板,尤其涉及一種中介層嵌置于樹脂模制加強層 中的線路板及其制作方法。
背景技術
就高腳數(shù)半導體芯片封裝及組體而言,其必需提供高密度線路板,以 供半導體芯片接置其上,進而將芯片I/O墊布線成具有更大的墊間距,以 達可靠的板級組裝(board-levelassembly)。例如,美國專利案號9,060,455、 9,089,041、8,859,912及8,797,757公開的各種無核心層基板,即是為了芯 片的扇出路由。相比于具有核心層的基板,無核心層基板具有較低寄生電 阻、較低電感及電容等優(yōu)點。最重要的是,無核心層基板的互連密度相比 于現(xiàn)有的具有核心層的基板高很多,這是應用于精細間距及高I/O所需的 重要特性。然而,由于無核心層基板容易因工藝中重復加熱及冷卻而發(fā)生 彎翹,因而仍無法被普遍采用。美國專利案號8,860,205、7,981,728及 7,902,660企圖解決此問題卻收效甚微。
更糟的是,由于半導體芯片的熱膨脹系數(shù)(硅約3至4ppm)比有機 基板(環(huán)氧樹脂約15ppm)來的低,故常因熱膨脹系數(shù)(CTE)不匹配而 導致界面應力,使得芯片級連接(chip-levelconnection)的可靠度不佳。
因為上述理由及以下所述的其他理由,目前亟需發(fā)展一種新式線路板, 以滿足高效能IC封裝的需求,并改善信號完整度,且達到較高生產(chǎn)合格 率、較高可靠度及較低成本。
發(fā)明內容
本發(fā)明的主要目的是提供一種線路板,其是將一無機中介層結合于線 路板中,以用于接置半導體芯片,使具有低熱膨脹系數(shù)(CTE)且高模數(shù) 的中介層可提供可靠的芯片連接界面。
本發(fā)明的另一目的是提供一種線路板,其是將該中介層嵌置于樹脂模 制加強層中,以避免線路板發(fā)生彎翹,可改善線路板的機械可靠度。
本發(fā)明的再一目的是提供一種線路板,其中該樹脂模制加強層包含有 一基底及一凸起部,該凸起部自基底凸起,以加強基底及嵌置中介層的剛 度。
本發(fā)明的又一目的是提供一種線路板,其是將該中介層與增層電路電 性耦接,以提供階段式的扇出路由,可改善生產(chǎn)合格率且降低成本。
依據(jù)上述及其他目的,本發(fā)明提供一種線路板,其包括一樹脂模制加 強層、一中介層及一增層電路。于一較佳實施例中,該樹脂模制加強層包 含有一基底及自該基底第一表面凸起的一凸起部,且可對中介層及增層電 路提供高模數(shù)抗彎平臺;該中介層嵌置于樹脂模制加強層的基底中,并對 后續(xù)組裝其上的芯片提供初級的扇出路由,以避免I/O墊間距緊密而可能 導致微盲孔未連接上接合墊的問題;增層電路設置于基底的相對第二表面 上,并電性耦接至中介層,以提供第二級的扇出路由,將中介層的墊尺寸 及墊間距進一步放大。
在另一方案中,本發(fā)明提供一種中介層嵌置于加強層中的線路板,其 包括:一樹脂模制加強層,其包括一基底及一凸起部,該凸起部自該基底 的一第一表面凸起;一中介層,其包括多個接合墊、多個接觸墊及多個金 屬化導孔,其中這些接合墊位于其第一表面處,這些接觸墊位于其相對的 第二表面處,且這些金屬化導孔電性耦接這些接合墊與這些接觸墊,其中 該中介層嵌置于該基底中,且該中介層的該第一表面與該基底的該第一表 面朝向同一方向,同時該中介層的該第一表面未被該基底所覆蓋;以及一 增層電路,其位于該基底的一相對第二表面上,其中該增層電路電性耦接 至該中介層的這些接觸墊,且包括側向延伸超過該中介層外圍邊緣的至少 一導線。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





