[發明專利]一種新型光譜儀

在審

• 申請號: 201610016589.3
• 申請日: 2016-01-12
• 公開（公告）號: CN105547479A
• 公開（公告）日: 2016-05-04
• 發明（設計）人: 蔡元學
• 申請（專利權）人: 天津納正科技有限公司
• 主分類號: G01J3/45
• 分類號: G01J3/45
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種光譜裝置，具體涉及一種新型光譜儀，屬于光譜儀領域。

背景技術

傳統光譜儀采用的光源少，壽命短，應用的領域不同所需要的光譜儀種類不 同，所以花銷增大，有些光譜儀的分辨率不夠高無法完成所需要的工作要求，有 些光譜儀沒有準確的調整系統，波動大會影響使用者的攝用，為此，我們提出一 種新型光譜儀。

發明內容

本發明要解決的技術問題克服現有的缺陷，提供一種新型光譜儀，通過改變 新的光路和全新的調節和反饋系統，可以有效解決背景技術中的問題。

為了解決上述技術問題，本發明提供了如下的技術方案：

本發明提供一種新型光譜儀，包括光譜儀內部、聚焦鏡、陣列檢測器、光柵、 準直鏡、光柵接頭、入射光線、入射狹縫、干涉儀、光譜儀光學系統、光電傳感 器、外圍處理器、數據采集卡、工控機處理平臺、后臺處理程序、反饋控制電路、 反饋控制鏡和折射光線，所述光線經過光柵接頭到達準直鏡折射到光柵折射到聚 焦鏡又折射到陣列檢測器，所述光譜儀光學系統包括干涉儀和光電傳感器，所述 工控機處理平臺包括數據采集卡和后臺處理程序，所述外圍處理器里面有反饋控 制電路。

作為本發明的一種新型光譜儀，所述光柵接頭的光經過入射狹縫到達準直鏡 進行折射。

作為本發明的一種新型光譜儀，所述光譜儀內部包括聚焦鏡、陣列檢測器、 光柵、準直鏡和光柵接頭。

作為本發明的一種新型光譜儀，所述光經過干涉儀到達光電傳感器里。

作為本發明的一種新型光譜儀，所述外圍處理器里的反饋控制電路將得到的 信號經過反饋控制鏡到達光譜儀光學系統。

作為本發明的一種新型光譜儀，所述工控機處理平臺里的數據采集卡和后臺 處理程序雙向連接。

本發明所達到的有益效果是：一種新型光譜儀設備通過改變光譜儀的光源具 有了耗能少、重量輕、抗震性強、使用壽命長等特點利用光焦度衡量像散大小， 使得利用柱面鏡校正像散時，其位置不受限制，可根據結構的需求任意擺放。準 直鏡到光柵距離對成像光譜儀全視場像差校正具有顯著影響，成像光譜儀像面傾 角的確定方法，實現了寬波段的像差校正。

附圖說明

附圖用來提供對本發明的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與本發明 的實施例一起用于解釋本發明，并不構成對本發明的限制。

在附圖中：

圖1是本發明實施例所述的一種新型光譜儀內部結構示意圖；

圖2是本發明實施例所述的一種新型光譜儀的控制系統示意圖；

圖中標號：1、光譜儀內部；2、聚焦鏡；3、陣列檢測器；4、光柵；5、準 直鏡；6、光柵接頭；7、入射光線；8、入射狹縫；9、干涉儀；10、光譜儀光學 系統；11、光電傳感器；12、外圍處理器；13、數據采集卡；14、工控機處理平 臺；15、后臺處理程序；16、反饋控制電路；17、反饋控制鏡；18、折射光線。

具體實施方式

以下結合附圖對本發明的優選實施例進行說明，應當理解，此處所描述的優 選實施例僅用于說明和解釋本發明，并不用于限定本發明。

實施例：請參閱圖1-2，本發明一種新型光譜儀，包括光譜儀內部1、2、陣 列檢測器3、光柵4、準直鏡5、光柵接頭6、入射光線7、入射狹縫8、干涉儀 9、光譜儀光學系統10、光電傳感器11、外圍處理器12、數據采集卡13、工控 機處理平臺14、后臺處理程序15、反饋控制電路16、反饋控制鏡17和折射光 線18，所述光線經過光柵接頭6到達準直鏡5折射到光柵4折射到聚焦鏡2又 折射到陣列檢測器3，所述光譜儀光學系統10包括干涉儀9和光電傳感器11， 所述工控機處理平臺14包括數據采集卡13和后臺處理程序15，所述外圍處理 器12里面有反饋控制電路16。

所述光柵接頭6的光經過入射狹縫8到達準直鏡5進行折射用于光線的傳 遞。所述光譜儀內部1包括聚焦鏡2、陣列檢測器3、光柵4、準直鏡5和光柵 接頭6用于光的反射。所述光經過干涉儀9到達光電傳感器11里用于光的干涉 處理。所述外圍處理器12里的反饋控制電路16將得到的信號經過反饋控制鏡 17到達光譜儀光學系統10用于對光信號的反饋處理。所述工控機處理平臺14 里的數據采集卡13和后臺處理程序15雙向連接用于數據的雙向制約。