[發(fā)明專利]半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610009487.9 | 申請(qǐng)日: | 2016-01-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106950825B | 公開(公告)日: | 2020-02-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 隋英麗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | G05B13/04 | 分類號(hào): | G05B13/04 |
| 代理公司: | 11201 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 張大威 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體設(shè)備 任務(wù) 終止 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止方法,其中,半導(dǎo)體設(shè)備可同時(shí)運(yùn)行多個(gè)任務(wù),該方法包括以下步驟:接收終止目標(biāo)任務(wù)的終止指令;獲取目標(biāo)任務(wù)對(duì)應(yīng)的晶圓所在的模塊;判斷晶圓所在的模塊是否為多個(gè)任務(wù)共用的模塊;如果晶圓所在的模塊是多個(gè)任務(wù)共用的模塊,則控制晶圓移動(dòng)至目標(biāo)任務(wù)的工藝模塊或裝卸載模塊,并在晶圓移動(dòng)至工藝模塊或裝卸載模塊之后停止目標(biāo)任務(wù);如果晶圓所在的模塊不是多個(gè)任務(wù)共用的模塊,則立即停止目標(biāo)任務(wù)。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止方法,可以有效提高如CVD等半導(dǎo)體設(shè)備的工作效率和使用效率。本發(fā)明還公開了一種半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止系統(tǒng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
對(duì)于包括有多個(gè)裝卸載模塊(Load Port)、多個(gè)工藝腔室的CVD設(shè)備(ChemicalVapor Deposition,化學(xué)氣相沉積),允許多個(gè)任務(wù)(即:Job)同時(shí)啟動(dòng)運(yùn)行。然而,在運(yùn)行的多個(gè)Job中,很可能出現(xiàn)某個(gè)Job因?yàn)樘厥馇闆r需要臨時(shí)終止。相關(guān)技術(shù)中,在接收某個(gè)Job的終止指令(即:Abort Job命令)后,直接終止該Job當(dāng)前執(zhí)行的動(dòng)作。
然而,上述終止Job的方式存在以下缺點(diǎn):直接終止該Job當(dāng)前執(zhí)行的動(dòng)作時(shí),被終止的Job對(duì)應(yīng)的晶圓留在當(dāng)前的模塊中。而對(duì)于多個(gè)Load Port、多個(gè)工藝腔室的CVD設(shè)備而言,這個(gè)模塊可能為公共使用模塊,如多個(gè)Job公共使用的大氣機(jī)械手、負(fù)載鎖定模塊(LoadLock)以及真空機(jī)械手等模塊。由于公共使用模塊被占用,導(dǎo)致其它的Job也要被迫停止運(yùn)行,影響了CVD設(shè)備的生產(chǎn)效率和使用效率。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)問題之一。為此,本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止方法。該方法可以提高如CVD等半導(dǎo)體設(shè)備的工作效率和使用效率。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提出一種半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止系統(tǒng)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的第一方面的實(shí)施例公開了一種半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止方法,其中,所述半導(dǎo)體設(shè)備可同時(shí)運(yùn)行多個(gè)任務(wù),所述方法包括以下步驟:接收終止目標(biāo)任務(wù)的終止指令;獲取所述目標(biāo)任務(wù)對(duì)應(yīng)的晶圓所在的模塊;判斷所述晶圓所在的模塊是否為所述多個(gè)任務(wù)共用的模塊;如果所述晶圓所在的模塊是所述多個(gè)任務(wù)共用的模塊,則控制所述晶圓移動(dòng)至所述目標(biāo)任務(wù)的工藝模塊或裝卸載模塊,并在所述晶圓移動(dòng)至所述工藝模塊或裝卸載模塊之后停止所述目標(biāo)任務(wù);以及如果所述晶圓所在的模塊不是所述多個(gè)任務(wù)共用的模塊,則立即停止所述目標(biāo)任務(wù)。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止方法,在終止目標(biāo)任務(wù)之前,首先判斷目標(biāo)任務(wù)對(duì)應(yīng)的晶圓是否處于公共使用模塊中,并在其處于公共使用模塊時(shí),控制其移動(dòng)至目標(biāo)工藝模塊(PM)或移動(dòng)回裝卸載模塊(源LoadPort(即目標(biāo)任務(wù)對(duì)應(yīng)的晶圓獨(dú)占的模塊)),然后在終止目標(biāo)任務(wù)。需要被終止的目標(biāo)任務(wù)對(duì)應(yīng)的晶圓不會(huì)占用公共使用模塊,從而使其它任務(wù)可以順利進(jìn)行,進(jìn)而提高如CVD等半導(dǎo)體設(shè)備的工作效率和使用效率。
另外,根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的半導(dǎo)體設(shè)備的任務(wù)終止方法還可以具有如下附加的技術(shù)特征:
在一些示例中,所述判斷所述晶圓所在的模塊是否為所述多個(gè)任務(wù)共用的模塊的步驟具體包括:判斷所述晶圓是否處在大氣機(jī)械手模塊、負(fù)載鎖定模塊或傳輸模塊之中;如果處在所述大氣機(jī)械手模塊、負(fù)載鎖定模塊或傳輸模塊之中,則判斷所在模塊是所述多個(gè)任務(wù)共用的模塊。
在一些示例中,所述判斷所述晶圓所在的模塊是否為所述多個(gè)任務(wù)共用的模塊的步驟具體包括:判斷所述晶圓是否處在所述工藝模塊或裝卸載模塊之中;如果處在所述工藝模塊或裝卸載模塊之中,則判斷所述晶圓所在的模塊不是所述多個(gè)任務(wù)共用的模塊。
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