[發明專利]陣列基板及其制備方法有效
| 申請號： | 201610007189.6 | 申請日： | 2016-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN105425492B | 公開（公告）日： | 2018-12-11 |
| 發明（設計）人： | 李彥辰;王攀華;李婧;劉漢青;趙偉 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1362 | 分類號： | G02F1/1362;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;張天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 陣列 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種陣列基板制備方法，所述陣列基板分為顯示區和引入區，其特征在于，所述陣列基板制備方法包括在基底上依次形成第一引線、第一絕緣層、第二引線、第二絕緣層的步驟；且還包括：
通過構圖工藝，在引入區中形成貫穿第二絕緣層的過孔，所述過孔包括位于第二引線上方的第二過孔，以及位于第一引線上方的單層過孔；
通過構圖工藝，在第一絕緣層中對應單層過孔的位置形成過孔，與所述單層過孔共同構成第一過孔。
2.根據權利要求1所述的陣列基板制備方法，其特征在于，
所述第一引線為柵極線；
所述第一絕緣層為柵絕緣層；
所述第二引線為數據線；
所述第二絕緣層為鈍化層。
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