[發明專利]顯示基板及其制作方法和顯示裝置

在審

• 申請號: 201610006929.4
• 申請日: 2016-01-05
• 公開（公告）號: CN105575893A
• 公開（公告）日: 2016-05-11
• 發明（設計）人: 朱夏明
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L21/77
• 分類號: H01L21/77;H01L27/12;H01L29/43
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 李相雨

1.一種顯示基板制作方法，其特征在于，包括：

在透明基底之上的第一區域形成第一柵極；

在所述第一柵極之上形成透明柵絕緣層；

在所述柵絕緣層之上形成透明有源層；

在所述有源層之上的第二區域形成透明源極和漏極，所述第一區 域和第二區域不重疊；

在所述源極和漏極之上形成鈍化層；

在所述鈍化層之上的第一區域形成第二柵極。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，形成第一柵極包 括：

在透明基底之上形成第一柵極金屬層；

在所述第一柵極金屬層之上形成正性光刻膠；

對第一區域以外的正性光刻膠進行曝光和顯影；

蝕刻掉第一區域以外的第一柵極金屬層；

剝離第一區域的正性光刻膠。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，形成源極和漏極 包括：

在所述有源層之上形成正性光刻膠；

以所述第一柵極為掩膜，從所述透明基底之下對第二區域的正性 光刻膠進行曝光和顯影；

在所述顯影后的光刻膠圖形層之上形成透明導體層；

剝離第一區域的正性光刻膠和透明導體層，第二區域剩余的透明 導體層作為所述透明源極和漏極。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，形成第二柵極包 括：

在所述鈍化層之上形成負性光刻膠；

以所述第一柵極為掩膜，從所述透明基底之下對第一區域以外的 負性光刻膠進行曝光，顯影去除第一區域的負性光刻膠；

在所述顯影后的負性光刻膠圖形層之上形成第二柵極金屬層；

剝離第一區域以外的負性光刻膠和第二柵極金屬層，第一區域剩 余的第二柵極金屬層作為所述第二柵極。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法，其特征在于，形 成有源層包括：

在透明柵絕緣層之上形成第一透明絕緣層；

在第一透明絕緣層之上形成多個透明子有源層；

在相鄰透明子有源層之間形成透明層間絕緣層；

在最上方的透明子有源層之上形成第二透明絕緣層。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，形成每個子有源 層包括：

形成透明半導體層。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，形成每個子有源 層包括：

形成第一透明半導體層；

在第一透明半導體層之上形成第二透明半導體層。

8.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，形成每個子有源 層包括：

形成第一透明半導體層；

在第一透明半導體層之上形成第三透明絕緣層；

在第三透明絕緣層之上形成第二透明半導體層。

9.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，形成有源層包括：

在相同的真空環境下形成第一透明絕緣層、第二透明絕緣層、所 有透明子有源層和透明層間絕緣層。

10.一種顯示基板，其特征在于，包括：

透明基底；

第一柵極，設置在所述透明基底之上的第一區域；

柵絕緣層，設置在所述第一柵極之上；

透明有源層，設置在所述柵絕緣層之上；

透明源極和漏極，設置在所述有源層之上的第二區域，所述第一 區域和第二區域不重疊；

鈍化層，設置在所述源極和漏極之上；

第二柵極，設置在所述鈍化層之上的第一區域。