[發明專利]掩膜板組、彩膜基板及其制作方法、檢測裝置、顯示裝置有效
| 申請號: | 201610006525.5 | 申請日: | 2016-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN105487333B | 公開(公告)日: | 2019-09-17 |
| 發明(設計)人: | 熊強;吳洪江;畢瑞琳;孫紅雨;韓自力;彭元鴻;黎敏 | 申請(專利權)人: | 重慶京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/42 | 分類號: | G03F1/42;G09F9/30;G02F1/1335;G02F1/13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜板組 彩膜基板 及其 制作方法 檢測 裝置 顯示裝置 | ||
本發明提供一種掩膜板組、彩膜基板及其制作方法、檢測裝置、顯示裝置。所述掩膜板組用于制作彩膜基板,所述掩膜板組包括:第一掩膜板,所述第一掩膜板對應于每個所述標記區的位置均形成有多個黑矩陣第一標記掩膜圖形,且距離最近的兩個所述黑矩陣第一標記掩膜圖形的中心間距不小于同一行中相鄰兩個所述子像素的中心間距的兩倍;第二掩膜板,所述第二掩膜板對應于所述濾光區的位置形成有與其中一種顏色的多個子像素一一對應的多個色阻塊掩膜圖形,所述第二掩膜板對應于每個所述標記區的位置均形成有沿列方向排列的至少兩個色阻標記掩膜圖形。本發明提供的掩膜板組制作的彩膜基板用于檢測時,檢測的準確率能夠提高。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,具體涉及一種掩膜板組、彩膜基板及其制作方法、檢測裝置、顯示裝置。
背景技術
彩膜基板主要包括襯底基板、背板銦錫氧化物膜、黑矩陣、彩膜層、保護膜層以及隔墊物。為檢測每層的制備精度,如圖1所示,彩膜基板包括多個靠近其角部的標記區,每個標記區均設置多個黑矩陣標記塊5和多個不同顏色的色阻標記塊3,黑矩陣標記塊5與黑矩陣同步形成,每種顏色的色阻標記塊3與相應顏色的色阻塊4同步形成。多個黑矩陣標記塊5被不同顏色的色阻標記塊3覆蓋。彩膜基板制備完成后,利用檢測裝置檢測每個色阻標記塊3和相應的黑矩陣標記塊5的中心是否對齊,如果對齊,表明顯示區的濾光色阻塊位置相對應,否則,表明顯示區的濾光色阻塊位置出現偏差。
為了降低彩膜基板的制作成本,在制作彩膜層時,共用一張圖2所示的掩膜板來制作不同顏色的色阻塊,該掩膜板的對應于每個標記區的位置均設置有一個第一透光孔1a,用于形成每制作一種顏色的色阻塊,在襯底基板的標記區同時形成了相應顏色的色阻標記塊,制作黑矩陣的掩膜板如圖3所示,對應于每個標記區的位置均設置有多個第二透光孔2a。因此,彩膜基板制作完成后,相鄰兩個色阻標記塊3的中心間距d1等于同一行中相鄰兩個色阻塊4的中心間距d2。在利用檢測裝置進行檢測時,視野內會出現兩個黑矩陣標記塊5和相應的兩個色阻塊對位標記3,如圖4所示,由于光線因素,無法對兩個色阻塊對位標記進行區分,容易造成識別錯誤,從而降低檢測結果準確性。
發明內容
本發明的目的在于提供一種掩膜板組、彩膜基板及其制作方法、檢測裝置、顯示裝置,以使得在不增加制作成本的前提下,提高彩膜基板的檢測準確率。
本發明提供一種掩膜板組,用于制作彩膜基板,所述彩膜基板包括濾光區和多個標記區,所述濾光區被劃分為多個像素單元,每個像素單元均包括沿行方向排列的多個不同顏色的子像素,所述掩膜板組包括:
第一掩膜板,所述第一掩膜板對應于每個所述標記區的位置均形成有多個黑矩陣第一標記掩膜圖形,且距離最近的兩個所述黑矩陣第一標記掩膜圖形的中心間距不小于同一行中相鄰兩個所述子像素的中心間距的兩倍;
第二掩膜板,所述第二掩膜板對應于所述濾光區的位置形成有與其中一種顏色的多個子像素一一對應的多個色阻塊掩膜圖形,所述第二掩膜板對應于每個所述標記區的位置均形成有沿列方向排列的至少兩個色阻標記掩膜圖形;
當所述第一掩膜板與所述彩膜基板的對正時,對應于同一個標記區的多個黑矩陣第一標記掩膜圖形能夠在該標記區形成多個第一投影,當所述第二掩膜板的色阻塊掩膜圖形依次與各種顏色的子像素對正時,對應于同一個標記區的多個色阻標記掩膜圖形能夠在該標記區形成多列第二投影,同一個標記區中,至少兩個第一投影分別對應不同列的第二投影,且所述第一投影位于相應的第二投影的范圍內。
優選地,在所述第一掩膜板的對應于任意一個所述標記區的位置,所述黑矩陣第一標記掩膜圖形的個數等于所述像素單元內子像素的顏色種類數,在同一標記區中,多個所述第一投影分別與位于互不相同的列中的多個所述第二投影一一對應。
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