[發明專利]一種基板、基板制造方法、觸摸屏和顯示裝置

有效

• 申請號: 201610006415.9
• 申請日: 2016-01-04
• 公開（公告）號: CN105607158B
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 郭建東
• 申請（專利權）人: 重慶京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B1/115
• 分類號: G02B1/115;G02F1/1335
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

本發明公開了一種基板、基板制造方法、觸摸屏和顯示裝置，包括襯底基板，還包括設置于襯底基板上的增透減反膜，所述的增透減反膜包括第一密實均質層、納米多孔層和第二密實均質層，所述增透減反膜各層的材料均為SiO2。光經過納米多孔層時，經多次反射而聚焦透射出去，達到減反射增透的目的。第一密實均質層的設置可以增強納米多孔層的沉積效率與結合力，避免高溫干燥處理時納米多孔層脫落。第二密實均質層可以防止納米多孔層表面吸附水分和灰塵造成蓋板玻璃霧度增大。同時增透減反膜因各層折射率不同，調整各層厚度進行光學匹配，從而達到消影的效果。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種基板、基板制造方法、觸摸屏和顯示裝置。

背景技術

為了提高手機、平板等智能顯示產品的畫面品質，通常在蓋板玻璃表面貼附功能膜或涂布功能涂層，以達到相應目的。當外界環境光足夠強時，往往會在顯示屏上反射周圍物體，從而影響顯示畫面，造成顯示品質下降，為此需要進行減反射處理。此外，對于On-Cell等觸摸屏，ITO Pattern在明亮環境下很容易被用戶察覺到，降低可視性，故需要在蓋板玻璃上鍍一層消影層。

玻璃表面在可見光范圍內的減反射效果可以通過兩種方法來實現：一是利用不同光學材料膜層產生的干涉效果來消除入射光和反射光，從而提高透過率；二是利用粗糙表面的散射作用把大量的入射光轉換為漫反射光，它不會給透過率帶來明顯的變化。前者所用基材通常為PET，但這不利于產品的輕薄化，同時由于PET基材在進行硬化處理的時候需要經過一次高溫，在高溫處理中，基材的表面分子結構不均勻產生散射情況，從而引起彩虹紋；而后者通常會增大玻璃表面霧度，影響顯示畫面的清晰度。

發明內容

為解決上述問題，本發明的提供了一種基板、基板制造方法、觸摸屏和顯示裝置，該基板通過在襯底基板上設置一層增透減反膜，所述的增透減反膜包括納米多孔層。可以有效提高光線透射程度，降低光線反射程度，實現消影，最終提高顯示效果。

本發明提供了一種基板，包括襯底基板，還包括設置于襯底基板上的增透減反膜，所述的增透減反膜包括納米多孔層。

例如，所述的納米多孔層的材料為SiO2。

例如，所述的增透減反膜還包括設置在納米多孔層和襯底基板間，并與納米多孔層表面相接觸的第一密實均質層，所述的第一密實均質層的材料為SiO2。由于納米多孔層和第一密實均質層都是以硅氧鍵形成的網絡結構為基礎，且新形成的膜表面斷鍵多，活性高，這有利于增強納米多孔層的沉積效率和結合力，避免高溫干燥處理時納米多孔層脫落。

例如，所述的增透減反膜還包括設置在納米多孔層遠離襯底基板一側并與納米多孔層表面相接觸的的第二密實均質層，所述的第二密實均質層的材料為SiO2。可以有效防止納米多孔層SiO2表面吸附水分和灰塵造成玻璃霧度增大，同時起保護作用。

例如，所述的襯底基板為玻璃基板，所述的納米多孔層與其上下表面的兩層密實均質層一起的綜合折射率為n2，空氣折射率為n1＝1，玻璃基板折射率為n3，折射率滿足如下條件：

其中，玻璃基板折射率為n3的取值范圍為1.458～1.534。納米多孔層SiO2膜材的折射率最佳應在1.21～1.24。納米多孔層的孔隙率越大，相應折射率越小。

納米多孔層的折射率為n22，第一密實均質層的折射率為n21，第二密實均質層的折射率為n23，其中n21＝n23＝n，p為納米多孔層的空隙所占膜材的體積分數：

例如，當納米多孔層的材料為SiO2，且納米多孔層的孔隙率達到50％時，納米多孔層的折射率為1.21。納米多孔SiO2空隙率達50％左右，甚至更高，光經過多次反射而聚焦透射出去，從而達到減反射增透的目的。