[發明專利]一種基板、基板制造方法、觸摸屏和顯示裝置

有效

• 申請號: 201610006415.9
• 申請日: 2016-01-04
• 公開（公告）號: CN105607158B
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 郭建東
• 申請（專利權）人: 重慶京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B1/115
• 分類號: G02B1/115;G02F1/1335
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種基板，其特征在于，包括襯底基板，還包括設置于襯底基板上的增透減反膜，所述的增透減反膜包括納米多孔層；所述的納米多孔層的材料為SiO2；

所述的增透減反膜還包括設置在納米多孔層和襯底基板間，并與納米多孔層表面相接觸的第一密實均質層；所述的第一密實均質層的材料為SiO2；

所述的增透減反膜還包括設置在納米多孔層遠離襯底基板一側并與納米多孔層表面相接觸的的第二密實均質層；所述的第二密實均質層的材料為SiO2；所述的襯底基板為玻璃基板，所述的納米多孔層與其上下表面的兩層密實均質層一起的綜合折射率為n2，空氣折射率為n1＝1，玻璃基板折射率為n3，折射率滿足如下條件：且納米多孔層的折射率在1.21～1.24之間；

所述的納米多孔層的厚度為d2，第一密實均質層的厚度為d1，第二密實均質層的厚度為d3，其中d1,d2,d3相互配合，使得光經第一密實均質層上表面反射后的光波與經過第二密實均質層下表面反射后的光波相位相反。

2.如權利要求1所述的基板，其特征在于，所述玻璃基板折射率為n3的取值范圍為1.458～1.534。

3.如權利要求1所述的基板，其特征在于，所述的納米多孔層的折射率為n22，第一密實均質層的折射率為n21，第二密實均質層的折射率為n23，其中n21＝n23＝n，p為納米多孔層的空隙所占膜材的體積分數：

4.如權利要求3所述的基板，其特征在于，當納米多孔層的材料為SiO2，且納米多孔層的孔隙率達到50％時，納米多孔層的折射率為1.21。

5.如權利要求1所述的基板，其特征在于，將所述的納米多孔層和第二密實均質層作為一個增透減反單元，所述的第二密實均質層遠離襯底基板一側的表面依次設置n個增透減反單元，其中n≥1。

6.一種如權利要求1-5任一項所述的基板制造方法，其特征在于，在襯底基板上采用溶膠凝膠工藝形成一層增透減反膜，所形成的增透減反膜為納米多孔層；所述的納米多孔層的材料為SiO2；

在所形成的納米多孔層和襯底基板間，采用化學氣相沉積形成一層第一密實均質層；所述的第一密實均質層的材料為SiO2；

在所形成的納米多孔層遠離襯底基板表面采用化學氣相沉積形成一層第二密實均質層；所述的第二密實均質層的材料為SiO2。

7.如權利要求6所述的基板制造方法，其特征在于，將所形成的納米多孔層和第二密實均質層作為一個增透減反單元，在所形成的第二密實均質層遠離襯底基板一側的表面依次形成n個增透減反單元，其中n≥1。

8.一種觸摸屏，其特征在于，包括觸控基板，所述的觸控基板上設置有觸控電極，還包括與觸控基板相對設置的如權利要求1～5任一項所述的基板。

9.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1～5任一項所述的基板。