[發(fā)明專(zhuān)利]止逆閥及防止氣體回沖的系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610005834.0
• 申請(qǐng)日: 2016-01-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106763924B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 彭堯政;陳俊正;陳博洋
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 力晶科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): F16K15/03
• 分類(lèi)號(hào): F16K15/03;F16K51/02;C23C14/56;C23C16/44
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 陳小雯

本發(fā)明公開(kāi)一種止逆閥，其包括閥體、多個(gè)旋啟式柵門(mén)及多個(gè)擋塊。閥體具有多個(gè)開(kāi)口。旋啟式柵門(mén)設(shè)置于閥體上。在旋啟式柵門(mén)關(guān)閉時(shí)，旋啟式柵門(mén)封住開(kāi)口。擋塊設(shè)置于閥體上。在旋啟式柵門(mén)開(kāi)啟時(shí)，擋塊擋住旋啟式柵門(mén)，以限制旋啟式柵門(mén)的開(kāi)啟角度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種閥及半導(dǎo)體制作工藝系統(tǒng)，且特別是涉及一種止逆閥及防止氣體回沖的系統(tǒng)。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體的制作工藝設(shè)備里，真空系統(tǒng)(vacuum system)的應(yīng)用非常地廣泛，從薄膜沉積(thin film deposition)、干蝕刻(dry etching)、離子注入(ion implantation)及光刻(lithography)等主要的制作工藝設(shè)備，到掃描式電子顯微鏡(scanning electronmicroscope)和二次離子質(zhì)量分析儀(secondary ion mass spectroscope)等半導(dǎo)體表面分析儀器，都需要真空系統(tǒng)來(lái)維持上述機(jī)臺(tái)于適合的壓力下操作。

然而，當(dāng)真空系統(tǒng)異常時(shí)，真空系統(tǒng)的管路中的氣體會(huì)產(chǎn)生回沖，而將管路中的微粒及粉塵回灌至反應(yīng)室中，而對(duì)反應(yīng)室造成污染，進(jìn)而使得產(chǎn)品損壞。

在目前業(yè)界使用的真空制作工藝反應(yīng)室設(shè)計(jì)中，雖然會(huì)在各個(gè)反應(yīng)室交界處裝設(shè)由真空計(jì)控制的切斷閥，然而一旦真空系統(tǒng)發(fā)生異常時(shí)，會(huì)因真空喪失而引發(fā)逆氣流，且往往因?yàn)檎婵沼?jì)反應(yīng)稍緩或是切斷閥關(guān)閉不及，而造成逆氣流夾帶大量粉塵回灌至反應(yīng)室，導(dǎo)致產(chǎn)品出現(xiàn)無(wú)法修補(bǔ)的損壞而需報(bào)廢。

此外，部分真空系統(tǒng)的設(shè)計(jì)考慮到空間限制，甚至?xí)÷栽O(shè)置切斷閥裝置。當(dāng)然，可要求原廠變更真空制作工藝反應(yīng)室的設(shè)計(jì)，而使得有足夠空間來(lái)裝設(shè)切斷閥裝置，然而此種方式不僅緩不濟(jì)急，且客制化的價(jià)格十分高昂。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種止逆閥，其可有效且即時(shí)地阻斷逆氣流與其夾帶的粉塵。

本發(fā)明提供一種防止氣體回沖的系統(tǒng)，在真空系統(tǒng)異常時(shí)，可避免因逆氣流回沖而夾帶的粉塵回灌至反應(yīng)室而造成的污染問(wèn)題。

本發(fā)明提供一種止逆閥，其包括閥體、多個(gè)旋啟式柵門(mén)及多個(gè)擋塊。閥體具有多個(gè)開(kāi)口。旋啟式柵門(mén)設(shè)置于閥體上。在旋啟式柵門(mén)關(guān)閉時(shí)，旋啟式柵門(mén)封住開(kāi)口。擋塊設(shè)置于閥體上。在旋啟式柵門(mén)開(kāi)啟時(shí)，擋塊擋住旋啟式柵門(mén)，以限制旋啟式柵門(mén)的開(kāi)啟角度。

依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的止逆閥中，旋啟式柵門(mén)包括軸及柵門(mén)。軸設(shè)置于閥體上。柵門(mén)連接于軸。

依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的止逆閥中，開(kāi)啟角度例如是30度至45度。

依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的止逆閥中，還包括多個(gè)密封件。密封件設(shè)置于閥體上并環(huán)繞開(kāi)口，且位于閥體與旋啟式柵門(mén)之間。

依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的止逆閥中，密封件例如是O型環(huán)。

依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的止逆閥中，還包括多個(gè)頂針結(jié)構(gòu)。各個(gè)頂針結(jié)構(gòu)包括彈簧結(jié)構(gòu)及頂針。彈簧結(jié)構(gòu)設(shè)置于閥體上。頂針連接于彈簧結(jié)構(gòu)。在旋啟式柵門(mén)關(guān)閉時(shí)，頂針與旋啟式柵門(mén)相接觸。

依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的止逆閥中，彈簧結(jié)構(gòu)包括殼體及彈簧。彈簧位于殼體中。

本發(fā)明提供一種防止氣體回沖的系統(tǒng)，其包括反應(yīng)室、真空系統(tǒng)、管路及上述止逆閥。管路設(shè)置將反應(yīng)室與真空系統(tǒng)進(jìn)行連通。止逆閥設(shè)置于管路系統(tǒng)中。

依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的防止氣體回沖的系統(tǒng)中，止逆閥中的旋啟式柵門(mén)可位于閥體鄰近于真空系統(tǒng)的一側(cè)。

依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的防止氣體回沖的系統(tǒng)中，管路系統(tǒng)至少在設(shè)置有止逆閥的部分可垂直于地面。