[發(fā)明專利]顯示基板及其制備方法、顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610004882.8
• 申請(qǐng)日: 2016-01-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105446039B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-10-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王麗;趙寶杰;崔家賓
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G02F1/1362
• 分類號(hào): G02F1/1362
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 羅瑞芝;陳源

本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。該顯示基板包括控制主體以及設(shè)置于控制主體上方的彩色主體，所述彩色主體包括彩膜層、黑矩陣，所述控制主體和所述彩色主體對(duì)應(yīng)設(shè)有對(duì)位區(qū)域，所述對(duì)位區(qū)域設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，其中，所述黑矩陣位于所述彩色主體的最上層，所述彩色主體中至少所述彩膜層中的所述對(duì)位標(biāo)記為鏤空結(jié)構(gòu)。該顯示基板中的對(duì)位標(biāo)記具有較大段差，從而利用標(biāo)準(zhǔn)圖形邊緣高度差異識(shí)別對(duì)位標(biāo)記位置來(lái)完成對(duì)位，解決了COA技術(shù)中黑矩陣無(wú)法準(zhǔn)確對(duì)位的問(wèn)題，保證了子像素對(duì)位的準(zhǔn)確性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術(shù)

傳統(tǒng)液晶面板制備工藝通常是在陣列基板(TFT)中制備薄膜晶體管陣列，彩膜基板(CF)中制備黑矩陣(Black Matrix)和彩膜層，然后將陣列基板和彩膜基板進(jìn)行Cell對(duì)盒工藝及后段模組組裝制程。黑矩陣的作用是分隔相鄰彩膜層以形成子像素，防止混色或漏光的發(fā)生。但若對(duì)盒工藝精度不好，造成TFT和CF對(duì)位形成偏差，會(huì)導(dǎo)致多種不良發(fā)生。

隨著液晶顯示行業(yè)的發(fā)展，COA(Color filter On Array)技術(shù)日漸趨于成熟，即將原本制備在彩膜基板中的黑矩陣和彩膜層轉(zhuǎn)移到陣列基板中，從根本上解決了對(duì)盒精度差導(dǎo)致不良發(fā)生的問(wèn)題，而且還具有提高開(kāi)口率和改善面板品質(zhì)等積極效果。

在傳統(tǒng)的液晶面板制備工藝中，各子像素間隙之間的黑矩陣直接形成在基板上，為彩膜基板的第一道制程，因此在黑矩陣的制備過(guò)程中不存在參考對(duì)位標(biāo)記(mark)的問(wèn)題。然而，在新的COA技術(shù)的液晶面板中，最初COA技術(shù)僅是將彩膜基板側(cè)的紅、綠、藍(lán)三種彩膜層制備到陣列基板上；隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，將彩膜基板上所有膜層(包括黑矩陣、彩膜層和柱狀隔墊物)都制備在陣列基板上，從而提高面板開(kāi)口率，并且從根本上解決彩膜基板和陣列基板對(duì)盒時(shí)對(duì)位精度差的問(wèn)題，避免因?qū)ξ黄钜鸬亩喾N不良發(fā)生。

然而，不可回避的一個(gè)問(wèn)題是，將彩膜基板上的黑矩陣制備到陣列基板上，存在曝光工藝時(shí)無(wú)法準(zhǔn)確讀取對(duì)位標(biāo)記的問(wèn)題。這是由于在制備黑矩陣之前，已經(jīng)進(jìn)行了其它圖形的制程，因此在制備黑矩陣時(shí)需要識(shí)別前面制程各層層結(jié)構(gòu)中的對(duì)位標(biāo)記。由于黑矩陣具有較高的光密度值(Optical Density，簡(jiǎn)稱OD)，因此在黑矩陣材料涂布后進(jìn)行曝光工藝時(shí)，難以識(shí)別或無(wú)法識(shí)別到前面制程各層層結(jié)構(gòu)中的對(duì)位標(biāo)記，進(jìn)而影響其與掩模板的對(duì)位標(biāo)記實(shí)現(xiàn)對(duì)位，導(dǎo)致曝光機(jī)難以準(zhǔn)確對(duì)位甚至無(wú)法對(duì)位。但是，如果采用較低光密度值的黑矩陣材料，雖然可以增加涂布后對(duì)位標(biāo)記的識(shí)別能力，但是黑矩陣的遮光效果會(huì)受到嚴(yán)重影響。圖1A所示為在陣列基板上方涂布黑色膜層50后的平面示意圖，圖1B所示為圖1A中正方形的對(duì)位區(qū)域的A-A截面剖視圖，從圖1A和圖1B中可以看出，在陣列基板上涂布黑色膜層50后，黑色膜層50將對(duì)位標(biāo)記2完全覆蓋，由于黑色膜層50的厚度的典型值為1μm，其對(duì)對(duì)位標(biāo)記2形成覆蓋后，降低了對(duì)位標(biāo)記2處與相鄰區(qū)域的段差，即使使用輪廓探測(cè)的方法也難以識(shí)別出對(duì)位標(biāo)記的準(zhǔn)確位置。

可見(jiàn)，設(shè)計(jì)一種方便的、能提高對(duì)位準(zhǔn)確性的COA顯示基板結(jié)構(gòu)成為目前亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置，該顯示基板中的對(duì)位標(biāo)記具有較大段差，從而利用標(biāo)準(zhǔn)圖形邊緣高度差異識(shí)別對(duì)位標(biāo)記位置來(lái)完成對(duì)位，解決了COA技術(shù)中黑矩陣無(wú)法準(zhǔn)確對(duì)位的問(wèn)題，保證了子像素對(duì)位的準(zhǔn)確性。

解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是該顯示基板，包括控制主體以及設(shè)置于控制主體上方的彩色主體，所述彩色主體包括彩膜層、黑矩陣，所述控制主體和所述彩色主體對(duì)應(yīng)設(shè)有對(duì)位區(qū)域，所述對(duì)位區(qū)域設(shè)置有對(duì)位標(biāo)記，其中，所述黑矩陣位于所述彩色主體的最上層，所述彩色主體中至少所述彩膜層中的所述對(duì)位標(biāo)記為鏤空結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的是，所述對(duì)位標(biāo)記為鏤空結(jié)構(gòu)的所述彩色主體部分的厚度至少為所述彩色主體整體的厚度的一半。