[發明專利]顯示基板及其制備方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201610004882.8 | 申請日: | 2016-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN105446039B | 公開(公告)日: | 2018-10-12 |
| 發明(設計)人: | 王麗;趙寶杰;崔家賓 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 羅瑞芝;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板,包括控制主體以及設置于控制主體上方的彩色主體,所述彩色主體包括彩膜層、黑矩陣,所述控制主體和所述彩色主體對應設有對位區域,所述對位區域設置有對位標記,其特征在于,所述黑矩陣位于所述彩色主體的最上層,所述彩色主體中至少所述彩膜層中的所述對位標記為鏤空結構。
2.根據權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述對位標記為鏤空結構的所述彩色主體部分的厚度至少為所述彩色主體整體的厚度的一半。
3.根據權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述對位標記為鏤空結構的所述彩色主體部分的厚度大于3μm。
4.根據權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,還包括附加層,所述附加層包括平坦層,所述平坦層設置于所述彩膜層與所述黑矩陣之間,所述平坦層中的所述對位標記為鏤空結構。
5.根據權利要求4所述的顯示基板,其特征在于,所述彩膜層的厚度范圍為2-3μm,所述黑矩陣的厚度范圍為0.8-1.2μm,所述平坦層的厚度大于2.5μm。
6.根據權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述對位標記的鏤空結構為十字型形狀或T字型形狀。
7.根據權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述黑矩陣采用高光密度脂材料形成,光密度范圍大于等于4。
8.根據權利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述控制主體包括薄膜晶體管,所述薄膜晶體管包括多層層結構,多層層結構在構圖工藝中通過所述對位標記對位逐層對位形成各層圖形。
9.一種顯示基板制備方法,其特征在于,包括步驟:
1)在基板上形成基準層,并在所述基準層中形成包括基準對位標記的圖形;
2)在形成基準對位標記的所述基板上方形成包括彩膜層的圖形,所述彩膜層的圖形中包括與所述基準對位標記對應的對位標記,所述彩膜層中的所述對位標記為鏤空結構;
3)在形成所述彩膜層的所述基板上方形成包括黑矩陣的圖形,形成所述黑矩陣的材料填充入所述對位標記的鏤空結構中,在曝光工藝中通過輪廓探測方法識別所述對位標記并對位。
10.根據權利要求9所述的顯示基板制備方法,其特征在于,在2)與3)之間還包括形成平坦層的步驟,所述平坦層中包括與所述基準對位標記對應的對位標記,所述平坦層中的所述對位標記為鏤空結構。
11.一種顯示裝置,其特征在于,包括權利要求1-8任一項所述的顯示基板。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司,未經京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610004882.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:電子設備
- 下一篇:一種監控金屬膜厚的方法





