[發(fā)明專利]一種層狀復(fù)合屏蔽織物的制備方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610003888.3
• 申請(qǐng)日: 2016-01-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105484015A
• 公開(kāi)（公告）日: 2016-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙航;呂銀祥
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 復(fù)旦大學(xué)
• 主分類號(hào): D06M11/71
• 分類號(hào): D06M11/71;D06M11/38;D06M11/76;D06M15/37;D06M13/513;D06M11/83;D06M101/06
• 代理公司: 上海正旦專利代理有限公司 31200
• 代理人: 張磊

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于電子材料技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種層狀復(fù)合屏蔽織物的制備方法。

背景技術(shù)

如今越來(lái)越多的電子產(chǎn)品及電器進(jìn)入人類的生活中，如移動(dòng)電話、計(jì)算機(jī)、電熱毯、微波爐等。在正常的情況下，人體的器官和組織都存在著穩(wěn)定有序的微弱電磁場(chǎng)，而這些電子電器產(chǎn)品在工作時(shí)會(huì)產(chǎn)生各種不同波長(zhǎng)和頻率的電磁波。在這些外界電磁場(chǎng)的干擾下，人體內(nèi)處于平衡狀態(tài)的微弱電磁場(chǎng)將遭到破壞，從而改變?nèi)梭w中的血液、淋巴液和細(xì)胞原生質(zhì)，不但影響人體的神經(jīng)系統(tǒng)、循環(huán)、免疫、生殖和代謝功能，嚴(yán)重的時(shí)候甚至可導(dǎo)致胎兒畸形或孕婦自然流產(chǎn)，給人體帶來(lái)嚴(yán)重危害。因此，隨著人們對(duì)健康越來(lái)越重視以及對(duì)生活質(zhì)量的要求越來(lái)越高，研究和開(kāi)發(fā)各種具有防電磁輻射面料已成為新型紡織品研究和發(fā)展的熱點(diǎn)領(lǐng)域之一。電磁波傳播至屏蔽材料表面時(shí)，有三種不同的衰減機(jī)理，一是在入射表面的反射衰減，是由空氣與屏蔽材料之間的錯(cuò)配阻抗引起，為富含電子或空穴的屏蔽材料的主要衰減形式。二是未被反射而進(jìn)入屏蔽體的電磁波被吸收衰減，是一種能量耗散，這是本征導(dǎo)電高分子（聚吡咯、聚苯胺、聚乙炔、聚聚塞吩）的主要衰減形式。三是屏蔽體內(nèi)部多重反射衰減，占衰減總量的很小比例，只在屏蔽效應(yīng)小于15dB時(shí)才有考慮意義。目前大部分防電磁輻射面料都只是以單種衰減形式（反射或吸收）為主導(dǎo)，如導(dǎo)電高分子復(fù)合織物、金屬化織物、碳基復(fù)合織物等，而將兩種衰減機(jī)理結(jié)合起來(lái)用作電磁屏蔽的產(chǎn)品在市面上還很少見(jiàn)。理論上，在織物表面構(gòu)建金屬/導(dǎo)電高分子復(fù)合層，得到的防電磁輻射面料可以實(shí)現(xiàn)反射與吸收兩種衰減機(jī)理的強(qiáng)勢(shì)結(jié)合，從而達(dá)到相互增強(qiáng)的效果，解決屏蔽效應(yīng)低、屏蔽性能不穩(wěn)定等難題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種層狀復(fù)合屏蔽織物的制備方法。

本發(fā)明提出的層狀復(fù)合屏蔽織物的制備方法，以亞麻為基體，在其表面依次沉積聚吡咯層和金屬鎳層，具體工藝包括亞麻堿減量處理、聚吡咯原位化學(xué)聚合、硅烷偶聯(lián)劑自組裝改性、鈀納米溶膠活化以及化學(xué)鍍鎳等，具體步驟如下：

（1）亞麻堿減量處理：將亞麻布置于60~80℃堿溶液中，堿減量處理10~30分鐘，取出、烘干；

（2）聚吡咯原位化學(xué)聚合：將堿減量處理后的亞麻布置于吡咯—乙醇溶液中5~20分鐘，取出再立即放入氧化劑溶液中5~20分鐘，取出、洗凈，上述過(guò)程循環(huán)3~5次，烘干；

（3）硅烷偶聯(lián)劑自組裝改性：將步聚（2）處理過(guò)的亞麻布浸入硅烷偶聯(lián)劑溶液中5~10分鐘，取出，于100~120℃烘干，浸泡與烘干循環(huán)3~5次；

（4）鈀納米溶膠活化：將步聚（3）處理過(guò)的亞麻布置于鈀納米溶膠溶液中3~5小時(shí)，取出、洗凈；

（5）化學(xué)鍍鎳：將步聚（4）處理過(guò)的亞麻布浸泡在鎳化學(xué)鍍液中，于30~60℃化學(xué)鍍0.5～2小時(shí)，取出洗凈，烘干，制得層狀復(fù)合屏蔽織物。

本發(fā)明中，堿溶液的配方是溶劑為去離子水，溶液中各種溶質(zhì)為：氫氧化鈉的濃度為2~4g/L，磷酸鈉的濃度為4~8g/L，碳酸鈉的濃度為2~4g/L。

本發(fā)明中，吡咯—乙醇溶液的溶質(zhì)為吡咯單體，溶劑為無(wú)水乙醇，吡咯溶液的摩爾濃度為0.5~1.0mol/L。

本發(fā)明中，氧化劑溶液的溶劑為去離子水，溶液中各種溶質(zhì)為氯化鐵的濃度為5~20g/L，對(duì)甲苯磺酸鈉的濃度為2~5g/L。.

本發(fā)明中，硅烷偶聯(lián)劑溶液的溶質(zhì)為3-氨基丙基三甲氧基硅烷，溶劑為丙酮，改性溶液的質(zhì)量濃度為0.1%~1%。

本發(fā)明中，鈀納米溶膠溶液的配方溶劑為去離子水，溶液中各種溶質(zhì)為氯化鈀的濃度為3~5g/L，酒石酸鉀鈉的濃度為10~15g/L，鹽酸的濃度為3~5g/L，硼氫化鈉的濃度為3~5g/L。

本發(fā)明中，鎳化學(xué)鍍液的配方是溶劑為去離子水，溶液中各種溶質(zhì)為硫酸鎳的濃度為15~25g/L，焦磷酸鈉的濃度15~25g/L，氨水的濃度為5~15g/L，多聚磷酸的濃度為3~5g/L，二甲氨基硼烷的濃度為3~5g/L。