[發明專利]真空鍍膜前處理加工方法有效
| 申請號: | 201610003478.9 | 申請日: | 2016-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN105586567B | 公開(公告)日: | 2019-05-14 |
| 發明(設計)人: | 徐金根;郝立鵬 | 申請(專利權)人: | 科森科技東臺有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/02 | 分類號: | C23C14/02 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟;侯瀟瀟 |
| 地址: | 224200 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空鍍膜 處理 加工 方法 | ||
本發明公開了一種真空鍍膜前處理加工方法,包括:a、高亮鏡面在精拋后通過超聲波除膠處理;b、對步驟a中除膠處理后的高亮度鏡面進行超聲波除蠟處理;c、對步驟b中除蠟處理后的高亮度鏡面進行表面活化處理;d、對步驟c中表面活化處理后的高亮度鏡面進行超聲波調和處理;e、對步驟d中調和處理后的高亮度鏡面進行超聲波除油處理;f、對步驟e中除油處理后的高亮度鏡面進行超聲波中和處理;g、對步驟f中中和處理后的高亮度鏡面采用純水進行漂洗;h、對步驟g中漂洗后的高亮度鏡面進行烘干處理;該能夠有效去除精拋后產生的納米氧化膜,工序簡單,有利于后續物理氣相沉積處理。
技術領域
本發明涉及拋光技術領域,尤其涉及一種真空鍍膜前處理加工方法。
背景技術
在金屬表面處理高亮鏡面精拋后會存在納米氧化膜,如運用在物理氣相沉積技術中,這種納米氧化膜會給物理氣相沉積的膜層結合力造成很大的影響,甚至會直接導致脫落,存在極大的弊端。
發明內容
本發明的目的在于提出一種真空鍍膜前處理加工方法,能夠有效去除精拋后產生的納米氧化膜,工序簡單,有利于后續物理氣相沉積處理。
為達此目的,本發明采用以下技術方案:
真空鍍膜前處理加工方法,包括如下步驟:
a、除膠超聲:高亮鏡面在精拋后通過超聲波除膠處理;
b、除臘超聲:對步驟a中除膠處理后的高亮度鏡面進行超聲波除蠟處理;
c、表面活化:對步驟b中除蠟處理后的高亮度鏡面進行表面活化處理;
d、調和超聲:對步驟c中表面活化處理后的高亮度鏡面進行超聲波調和處理;
e、除油超聲:對步驟d中調和處理后的高亮度鏡面進行超聲波除油處理;
f、中和超聲:對步驟e中除油處理后的高亮度鏡面進行超聲波中和處理;
g、純水漂洗:對步驟f中中和處理后的高亮度鏡面采用純水進行漂洗;
h、烘干:對步驟g中漂洗后的高亮度鏡面進行烘干處理。
作為一種優選,在步驟a和步驟b之間、步驟b與步驟c之間、步驟c與步驟d之間、步驟d與步驟e之間、步驟e與步驟f之間、步驟f與步驟g之間均包括:
噴淋:對前一步驟中處理后的高亮度鏡面進行噴淋處理,噴淋的補水量為5L/min。
作為一種優選,步驟a中采用的環境參數如下:
超聲波為4A;藥水為中性除膠劑;藥水濃度為8%~10%;藥水補水量為3.5L/24H;溫度為30±2℃;時間240±10S;藥水更換周期14天;優選的,藥水濃度可以為8%、8.5%、9%、9.5%、10%;溫度可以為28℃、29℃、30℃、31℃、32℃;時間可以為230S、235S、240S、245S、250S;
優選的,所述中性除膠劑,按重量份計,包含以下原料:
20~35份的2-氨基-2-乙基-1,3丙二醇、10~20份的烷基酚聚氧乙烯醚、5~10份的2甲基2氨基丙醇、25~35份的丙二醇單乙醚。
其中,2-氨基-2-乙基-1,3丙二醇可以為20份、21份、22份、23份、24份、25份、26份、27份、28份、29份、30份、31份、32份、33份、34份、35份;烷基酚聚氧乙烯醚可以為10份、11份、12份、13份、14份、15份、16份、17份、18份、19份20份;2甲基2氨基丙醇可以為5份、6份、7份、8份、9份、10份;丙二醇單乙醚可以為25份、26份、27份、28份、29份、30份、31份、32份、33份、34份、35份。
作為一種優選,步驟b中采用的環境參數如下:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于科森科技東臺有限公司,未經科森科技東臺有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610003478.9/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





