[發明專利]一種高光學純度1?[四氫?2?呋喃基]乙酮的工業化制備方法

有效

• 申請號: 201610000557.4
• 申請日: 2016-01-04
• 公開（公告）號: CN105669606B
• 公開（公告）日: 2017-12-26
• 發明（設計）人: 袁偉成;邢志奎;徐小英;牟行彥;李宗林;歐仁樹;葛真真;雷三忠;陳誠;雷繼中
• 申請（專利權）人: 成都麗凱手性技術有限公司
• 主分類號: C07D307/12
• 分類號: C07D307/12
• 代理公司: 綿陽市博圖知識產權代理事務所(普通合伙)51235
• 代理人: 陳永曄

1.一種高光學純度(S)-1-(四氫呋喃-2-基)乙酮的工業化制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)以四氫呋喃甲酸(Ⅳ)為原料，在有機溶劑中，加入羰基二咪唑，進行反應，得到1-(四氫呋喃-2-基羰基)-1H-咪唑(Ⅲ)；

(2)步驟(1)所得的1-(四氫呋喃-2-基羰基)-1H-咪唑(Ⅲ)，直接加入丙二酸亞異丙酯進行縮合，得縮合物(Ⅱ)；所述縮合物(Ⅱ)的結構如下所示：

(3)步驟(2)所得的縮合物(Ⅱ)在酸性條件進行水解，然后萃取、濃縮得產品(S)-1-(四氫呋喃-2-基)乙酮(Ⅰ)；

其中，所述四氫呋喃甲酸(Ⅳ)為S-四氫呋喃甲酸。

2.根據權利要求1所述的高光學純度(S)-1-(四氫呋喃-2-基)乙酮的工業化制備方法，其特征在于，步驟(1)中，所述有機溶劑選自二氯甲烷，1,2-二氯乙烷，四氫呋喃，甲苯，甲基叔丁基醚中的至少一種。

3.根據權利要求2所述的高光學純度(S)-1-(四氫呋喃-2-基)乙酮的工業化制備方法，其特征在于，所述有機溶劑為二氯甲烷。

4.根據權利要求1所述的高光學純度(S)-1-(四氫呋喃-2-基)乙酮的工業化制備方法，其特征在于，步驟(1)中，所述羰基二咪唑與四氫呋喃甲酸的摩爾比為1:1-20:1。

5.根據權利要求1所述的高光學純度(S)-1-(四氫呋喃-2-基)乙酮的工業化制備方法，其特征在于，步驟(3)中，水解時所采用的酸選自鹽酸、醋酸、硫酸中的一種。

6.根據權利要求1所述的高光學純度(S)-1-(四氫呋喃-2-基)乙酮的工業化制備方法，其特征在于，步驟(3)中，水解時縮合物(Ⅱ)與采用的酸的摩爾比為1：0.1～1：10。

7.根據權利要求1所述的高光學純度(S)-1-(四氫呋喃-2-基)乙酮的工業化制備方法，其特征在于，步驟(3)中，萃取時pH值為6-10。