[發明專利]含有胺和醌的反應產物的化合物的銅電鍍浴有效
| 申請號： | 201580083216.1 | 申請日： | 2015-10-08 |
| 公開（公告）號： | CN108026128B | 公開（公告）日： | 2021-04-27 |
| 發明（設計）人： | 呂偉靜;段鈴麗;Z·尼亞齊姆貝托瓦;陳晨;M·瑞茲尼克 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限責任公司;陶氏環球技術有限責任公司 |
| 主分類號： | C25D3/38 | 分類號： | C25D3/38;C07G99/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 樊云飛 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 含有 反應 產物 化合物 電鍍 | ||
1.一種包含胺和醌的反應產物的化合物，其中所述胺是：
其中所述醌具有下式：
其中R15、R16、R17和R18獨立地選自氫、羥基、直鏈或支鏈羥基(C1-C10)烷基、鹵素、直鏈或支鏈(C1-C10)烷基和直鏈或支鏈氨基(C1-C10)烷基，其中R15和R16的碳原子可以結合在一起以形成稠合芳環，以形成具有下式的結構：
其中R19和R20與上文所描述的R17和R18相同，并且R21、R22、R23和R24獨立地選自氫、羥基、直鏈或支鏈羥基(C1-C10)烷基、鹵素、直鏈或支鏈(C1-C10)烷基和直鏈或支鏈氨基(C1-C10)烷基。
2.根據權利要求1所述的化合物，其中所述醌具有下式：
其中R15、R16、R17和R18獨立地選自氫、羥基、直鏈或支鏈羥基(C1-C10)烷基、鹵素、直鏈或支鏈(C1-C10)烷基和直鏈或支鏈氨基(C1-C10)烷基。
3.根據權利要求1所述的化合物，其中所述醌具有下式：
其中R19和R20獨立地選自氫、羥基、直鏈或支鏈羥基(C1-C10)烷基、鹵素、直鏈或支鏈(C1-C10)烷基和直鏈或支鏈氨基(C1-C10)烷基，并且R21、R22、R23和R24獨立地選自氫、羥基、直鏈或支鏈羥基(C1-C10)烷基、鹵素、直鏈或支鏈(C1-C10)烷基和直鏈或支鏈氨基(C1-C10)烷基。
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