[發(fā)明專(zhuān)利]電磁體支架、電磁體裝置及粒子射線治療裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201580082913.5 | 申請(qǐng)日: | 2015-09-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108029187A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 井上博光;小畑順 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 三菱電機(jī)株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H05H7/04 | 分類(lèi)號(hào): | H05H7/04;G21K5/04;H01F7/06;H05H13/04 |
| 代理公司: | 上海專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 宋俊寅 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁體 支架 裝置 粒子 射線 治療 | ||
本發(fā)明的目的在于提供一種電磁體支架,能在配置有電磁體的設(shè)備室中縮小電磁體的電源電纜配置空間。電磁體支架(1)的特征在于,包括:支承電磁體(2a)的頂板(11);支撐頂板(11)的多個(gè)腳(13);以及固定于多個(gè)腳(13)并且配置于頂板(11)的下側(cè)的電纜配置構(gòu)件(12),電磁體(2a)的電源電纜(4)在帶電粒子射束(51)的前進(jìn)方向上延伸配置的電纜配置部(16)形成在電纜配置構(gòu)件(12)與頂板(11)之間,電纜配置部(16)的與帶電粒子射束(51)的前進(jìn)方向垂直的方向的長(zhǎng)度即電纜配置寬度(寬度方向腳間長(zhǎng)度(L1))比電磁體(2a)的與帶電粒子射束(51)的前進(jìn)方向垂直的方向的寬度(Mw)要長(zhǎng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及對(duì)用于例如研究、醫(yī)療、工業(yè)領(lǐng)域所使用的加速器、射束運(yùn)輸系統(tǒng)等的電磁體進(jìn)行支承的電磁體支架。
背景技術(shù)
一般而言,癌癥治療等所使用的粒子射線治療裝置包括:產(chǎn)生帶電粒子射束的射束產(chǎn)生裝置;與射束產(chǎn)生裝置相連并對(duì)產(chǎn)生的帶電粒子射束進(jìn)行加速的加速器;對(duì)加速至加速器中所設(shè)定的能量后出射的帶電粒子射束進(jìn)行運(yùn)輸?shù)纳涫\(yùn)輸系統(tǒng);以及設(shè)置于射束運(yùn)輸系統(tǒng)的下游且用于將帶電粒子射束照射到照射對(duì)象的粒子射線照射裝置。為了從任意的角度向照射對(duì)象照射帶電粒子射束,粒子射線照射裝置設(shè)置于三維照射用的旋轉(zhuǎn)機(jī)架上。
利用同步加速器等加速器(圓形加速器)使帶電粒子環(huán)繞加速,從其環(huán)繞軌道取出被加速至高能量的帶電粒子(質(zhì)子、碳離子等),成為射束狀的帶電粒子(也稱(chēng)為帶電粒子射束、粒子射線)由射束運(yùn)輸系統(tǒng)進(jìn)行運(yùn)輸從而利用于照射到所希望的對(duì)象物的物理實(shí)驗(yàn)、癌癥的治療等粒子射線治療。在利用加速后的帶電粒子進(jìn)行的癌癥治療、即所謂的粒子射線治療中,在進(jìn)行治療時(shí),為了避開(kāi)重要器官、防止對(duì)正常組織帶來(lái)?yè)p傷,一般會(huì)改變照射方向。為了從任意的方向?qū)颊哌M(jìn)行照射,使用設(shè)置于上述的旋轉(zhuǎn)機(jī)架的粒子射線照射裝置。
同步加速器等加速器由帶電粒子射束進(jìn)行環(huán)繞的環(huán)狀的加速管、用于控制帶電粒子射束的環(huán)繞軌道的偏轉(zhuǎn)電磁體、四極電磁體、利用由高頻加速電壓產(chǎn)生的電場(chǎng)對(duì)帶電粒子射束進(jìn)行加速的加速空洞、將帶電粒子射束導(dǎo)入加速管內(nèi)的入射裝置以及將加速后的帶電粒子射束取出到外部的出射裝置等構(gòu)成。加速器的偏轉(zhuǎn)電磁體、四極電磁體等由支架所支承(例如專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。此外,對(duì)于射束運(yùn)輸系統(tǒng),偏轉(zhuǎn)電磁體、四極電磁體等也由支架所支承。
如上所述,同步加速器等加速器由偏轉(zhuǎn)電磁體、四極電磁體等多個(gè)電磁體、加速空洞、入射裝置、出射裝置等構(gòu)成,并且也設(shè)置有測(cè)量帶電粒子射束的狀態(tài)的射束測(cè)量設(shè)備等。在配置了加速器、射束運(yùn)輸系統(tǒng)的設(shè)備室中,配置有大量構(gòu)成加速器的設(shè)備及測(cè)量帶電粒子射束的狀態(tài)的射束測(cè)量設(shè)備等的電纜。特別是對(duì)構(gòu)成加速器的設(shè)備提供電流的電纜(電源電纜)較粗,因此需要寬敞的電纜設(shè)置空間。
例如,專(zhuān)利文獻(xiàn)2中記載了對(duì)勵(lì)磁電流不同的每個(gè)種類(lèi)的電磁體設(shè)置獨(dú)立的電源、并對(duì)每個(gè)種類(lèi)的電磁體鋪設(shè)了電纜的加速器的電磁體供電系統(tǒng)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本專(zhuān)利特開(kāi)平6-132098號(hào)公報(bào)(0065段、圖7、圖8)
專(zhuān)利文獻(xiàn)2:日本專(zhuān)利特開(kāi)平7-176400號(hào)公報(bào)(0002段、圖3)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的問(wèn)題
專(zhuān)利文獻(xiàn)2的加速器的電磁體供電系統(tǒng)中未記載對(duì)構(gòu)成加速器的設(shè)備進(jìn)行支承的支架。通常,具有大量對(duì)電磁體進(jìn)行供電的電纜(電源電纜),在配置有加速器等的設(shè)備室中,配置有對(duì)例如電源電纜進(jìn)行收納的電纜架等。電纜架等不得不與由支架支承的加速器的構(gòu)成設(shè)備隔開(kāi)一定的距離并以并行方式配置,需要在設(shè)備室中確保該電纜架等、即電源電纜設(shè)置空間。因此,存在如下問(wèn)題:加速器等的構(gòu)成設(shè)備、射束測(cè)量設(shè)備等越多,則電源電纜設(shè)置空間變得越大,設(shè)備室變得越大。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于三菱電機(jī)株式會(huì)社,未經(jīng)三菱電機(jī)株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201580082913.5/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 光源裝置、照明裝置、液晶裝置和電子裝置
- 預(yù)測(cè)裝置、編輯裝置、逆預(yù)測(cè)裝置、解碼裝置及運(yùn)算裝置
- 圖像形成裝置、定影裝置、遮光裝置以及保持裝置
- 打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置以及打印裝置、讀取裝置、復(fù)合裝置的控制方法
- 電子裝置、光盤(pán)裝置、顯示裝置和攝像裝置
- 光源裝置、照明裝置、曝光裝置和裝置制造方法
- 用戶(hù)裝置、裝置對(duì)裝置用戶(hù)裝置、后端裝置及其定位方法
- 遙控裝置、通信裝置、可變裝置及照明裝置
- 透鏡裝置、攝像裝置、處理裝置和相機(jī)裝置
- 抖動(dòng)校正裝置、驅(qū)動(dòng)裝置、成像裝置、和電子裝置





