[發明專利]電磁體支架、電磁體裝置及粒子射線治療裝置

在審

• 申請號: 201580082913.5
• 申請日: 2015-09-11
• 公開（公告）號: CN108029187A
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發明（設計）人: 井上博光;小畑順
• 申請（專利權）人: 三菱電機株式會社
• 主分類號: H05H7/04
• 分類號: H05H7/04;G21K5/04;H01F7/06;H05H13/04
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 宋俊寅

1.一種電磁體支架，該電磁體支架對將磁場作用于帶電粒子射束的電磁體進行支承，其特征在于，包括：

支承所述電磁體的頂板；支撐所述頂板的多個腳；以及固定于多個所述腳并且配置于所述頂板的下側的電纜配置構件，

所述電磁體的電源電纜在所述帶電粒子射束的前進方向上延伸配置的電纜配置部形成在所述電纜配置構件與所述頂板之間，

所述電纜配置部的與所述帶電粒子射束的前進方向垂直的方向的長度即電纜配置寬度比所述電磁體的與所述帶電粒子射束的前進方向垂直的方向的寬度要長。

2.如權利要求1所述的電磁體支架，其特征在于，

所述頂板具有供所述電磁體的所述電源電纜從所述電纜配置部通過至頂板的上側的開口。

3.如權利要求1或2所述的電磁體支架，其特征在于，

所述頂板具有對吊起該電磁體支架的線進行連接的線連接器具。

4.如權利要求1至3的任一項所述的電磁體支架，其特征在于，

所述電纜配置部的所述電纜配置寬度是所述電磁體的與所述帶電粒子射束的前進方向垂直的方向的寬度的1.5倍以上。

5.如權利要求1至4的任一項所述的電磁體支架，其特征在于，

所述頂板具有對配置于所述帶電粒子射束的前進方向上的多個所述電磁體進行支承的多個電磁體支承部。

6.一種電磁體裝置，其特征在于，包括：

如權利要求1至4的任一項所述的電磁體支架；以及

搭載于所述電磁體支架的所述頂板的所述電磁體。

7.一種電磁體裝置，其特征在于，包括：

如權利要求5所述的電磁體支架；以及

多個所述電磁體，該多個所述電磁體搭載于所述電磁體支架的所述頂板的所述電磁體支承部。

8.一種粒子射線治療裝置，包括：產生帶電粒子射束的入射系統；使從所述入射系統入射的所述帶電粒子射束加速的加速器；運輸由所述加速器加速后的帶電粒子射束的射束運輸系統；以及將由所述射束運輸系統運輸的所述帶電粒子射束照射到照射對象的粒子射線照射裝置，該粒子射線治療裝置的特征在于，

所述加速器及所述射束運輸系統雙方或任一方具備多個搭載有所述電磁體的權利要求6或7所述的電磁體裝置，

在至少一個所述電磁體裝置的所述電纜配置部配置有與該電磁體裝置的所述電磁體連接的所述電源電纜及與其他的所述電磁體裝置的所述電磁體連接的所述電源電纜。

9.如權利要求8所述的粒子射線治療裝置，其特征在于，

至少一個所述電磁體裝置在所述頂板搭載有對所述帶電粒子射束的狀態進行測量的射束測量設備。