[發(fā)明專利]成型模具、成型模具的制造方法和復(fù)制品的制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201580082025.3
• 申請(qǐng)日: 2015-09-03
• 公開（公告）號(hào): CN107848151B
• 公開（公告）日: 2020-03-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 山本和也;山本剛司
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 納盧克斯株式會(huì)社
• 主分類號(hào): B29C33/38
• 分類號(hào): B29C33/38;B29C33/42;G02B1/118;H01L21/302;H01L21/3065
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 龐東成;褚瑤楊

提供一種成型模具的制造方法，該制造方法能夠?qū)V泛區(qū)域的間距的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的形狀調(diào)整為可令人充分滿意的程度。一種成型模具的制造方法，其中，在反應(yīng)性離子蝕刻裝置內(nèi)配置與六氟化硫反應(yīng)的半導(dǎo)體基材或金屬基材，導(dǎo)入六氟化硫與氧的混合氣體，在等離子體干法蝕刻工藝中，使氧化物散布到該基材的表面，將該氧化物作為防蝕刻掩模，利用六氟化硫在該基材的表面進(jìn)行蝕刻，由此在該基材的表面形成微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)，之后，對(duì)該微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)照射離子束以調(diào)整該微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的凸部的形狀。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及在表面具備微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的成型模具、成型模具的制造方法和使用成型模具的復(fù)制品的制造方法。

背景技術(shù)

在光學(xué)元件中使用了防反射結(jié)構(gòu)，該防反射結(jié)構(gòu)由以小于光波長(zhǎng)的間距(周期)進(jìn)行排列的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)構(gòu)成。作為這種微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)用的成型模具的制造方法，已知有使用干涉曝光裝置或電子束描繪裝置將抗蝕劑圖案化并進(jìn)行蝕刻或電鑄的方法。但是，利用這些方法難以在大面積的平面或曲面形成微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)。

因此，本申請(qǐng)的發(fā)明人開發(fā)出了一種制造方法，該制造方法不需要進(jìn)行圖案化，可通過(guò)反應(yīng)性離子蝕刻工藝制造具備微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的成型模具(專利文獻(xiàn)1)。根據(jù)該方法，能夠不進(jìn)行圖案化而在大面積的平面或曲面形成微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)。

但是，在形成與可見(jiàn)光的最小波長(zhǎng)以下的波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的、例如0.26μm以下的間距的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)時(shí)，僅通過(guò)反應(yīng)性離子蝕刻工藝難以將微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的形狀調(diào)整為可令人充分滿意的程度。

因此，需要能夠?qū)梢?jiàn)光的波長(zhǎng)以下的區(qū)域在內(nèi)的廣泛區(qū)域的間距的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的形狀調(diào)整為可令人充分滿意的程度的成型模具的制造方法；以及通過(guò)該制造方法所制造的具備形狀被調(diào)整為可令人充分滿意的程度的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的成型模具。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：WO2014/076983A1

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

因此，本發(fā)明的技術(shù)課題在于提供一種能夠?qū)梢?jiàn)光的波長(zhǎng)以下的區(qū)域在內(nèi)的廣泛區(qū)域的間距的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的形狀調(diào)整為可令人充分滿意的程度的成型模具的制造方法；以及通過(guò)該制造方法所制造的具備形狀被調(diào)整為可令人充分滿意的程度的微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的成型模具。

用于解決課題的手段

本發(fā)明的第1方案的成型模具的制造方法包括：在反應(yīng)性離子蝕刻裝置內(nèi)配置與六氟化硫反應(yīng)的半導(dǎo)體基材或金屬基材，導(dǎo)入六氟化硫與氧的混合氣體，在等離子體干法蝕刻工藝中，使氧化物散布在該基材的表面，將該氧化物作為防蝕刻掩模，利用六氟化硫在該基材的表面進(jìn)行蝕刻，由此在該基材的表面形成微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)，之后，對(duì)該微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)照射離子束以調(diào)整該微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的凸部的形狀。

本方案的成型模具的制造方法除了在反應(yīng)性離子蝕刻裝置中形成微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)以外，還包括對(duì)該微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)照射離子束以調(diào)整該微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的凸部的形狀，因此能夠使該微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的凸部的形狀為所期望的形狀。其結(jié)果，作為一例，能夠提高由微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)所產(chǎn)生的防反射功能。

本發(fā)明的第1方案的第1實(shí)施方式的成型模具的制造方法進(jìn)一步包括通過(guò)電鑄使該微細(xì)結(jié)構(gòu)再生。

根據(jù)本實(shí)施方式，能夠應(yīng)用于更廣泛的領(lǐng)域。

本發(fā)明的第1方案的第2實(shí)施方式的成型模具的制造方法中，在照射離子束時(shí)，離子束相對(duì)于該基材的表面的角度為0度至20度的范圍。

根據(jù)本實(shí)施方式，容易將該微細(xì)凹凸結(jié)構(gòu)的凸部的形狀形成為例如對(duì)于提高防反射功能有利的錐狀。

本發(fā)明的第1方案的第3實(shí)施方式的成型模具的制造方法中，該基材形成為基板或膜。