[發明專利]使用背側金屬層的高密度存儲器架構有效
| 申請號: | 201580080596.3 | 申請日: | 2015-06-02 |
| 公開(公告)號: | CN107646143B | 公開(公告)日: | 2022-04-12 |
| 發明(設計)人: | Y.王;P.莫羅 | 申請(專利權)人: | 英特爾公司 |
| 主分類號: | H01L27/22 | 分類號: | H01L27/22;H01L27/24;H01L45/00;G11C11/16;G11C13/00 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 黃濤;杜荔南 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 金屬 高密度 存儲器 架構 | ||
1.一種微電子存儲器,包括:
襯底,具有前表面和相對的背表面;
源線,形成在襯底背表面上;和
存儲器位單元晶體管,在襯底前表面上。
2.如權利要求1所述的微電子存儲器,其中所述存儲器位單元晶體管包括形成在襯底中的至少一個源極/漏極結構,其中源線以電氣方式連接到所述至少一個源極/漏極結構。
3.如權利要求2所述的微電子存儲器,其中所述源線通過襯底內的深擴散觸點以電氣方式連接到所述至少一個源極/漏極結構。
4.如權利要求1至3中任一項所述的微電子存儲器,還包括:字線,形成在襯底背表面上。
5.如權利要求4所述的微電子存儲器,還包括字線帶,所述字線帶包括:襯底背表面上的字線,以電氣方式連接到存儲器位單元晶體管內的字線。
6.如權利要求5所述的微電子存儲器,其中襯底背表面上的字線通過襯底內的源極/漏極結構和深擴散觸點以電氣方式連接到存儲器位單元晶體管內的字線。
7.如權利要求1至4中任一項所述的微電子存儲器,還包括:存儲器單元晶體管陣列,在襯底前表面上。
8.如權利要求7所述的微電子存儲器,其中所述存儲器單元晶體管陣列包括多個基于電阻的存儲器晶體管。
9.如權利要求8所述的微電子存儲器,其中所述多個基于電阻的存儲器晶體管包括多個自旋轉移力矩(STT) MRAM (磁阻隨機存取存儲器)晶體管。
10.如權利要求8所述的微電子存儲器,其中所述多個基于電阻的存儲器晶體管包括多個ReRAM (電阻隨機存取存儲器)。
11.一種微電子存儲器,包括:
襯底,具有前表面和相對的背表面;
字線,形成在襯底背表面上;和
存儲器位單元晶體管,在襯底前表面上。
12.如權利要求11所述的微電子存儲器,還包括字線帶,所述字線帶包括:襯底背表面上的字線,以電氣方式連接到存儲器位單元晶體管內的字線。
13.如權利要求11所述的微電子存儲器,其中襯底背表面上的所述字線通過襯底內的源極/漏極結構和深擴散觸點以電氣方式連接到存儲器位單元晶體管內的字線。
14.如權利要求11所述的微電子存儲器,還包括:源線,形成在襯底背表面上。
15.如權利要求14所述的微電子存儲器,其中所述存儲器位單元晶體管包括形成在襯底中的至少一個源極/漏極結構,其中源線以電氣方式連接到所述至少一個源極/漏極結構。
16.如權利要求15所述的微電子存儲器,其中所述源線通過襯底內的深擴散觸點以電氣方式連接到所述至少一個源極/漏極結構。
17.如權利要求11至16中任一項所述的微電子存儲器,還包括:晶體管陣列,在襯底前表面上。
18.如權利要求17所述的微電子存儲器,其中所述晶體管陣列包括多個基于電阻的存儲器晶體管。
19.如權利要求18所述的微電子存儲器,其中所述多個基于電阻的存儲器晶體管包括多個自旋轉移力矩(STT) MRAM (磁阻隨機存取存儲器)晶體管。
20.如權利要求18所述的微電子存儲器,其中所述多個基于電阻的存儲器晶體管包括多個ReRAM (電阻隨機存取存儲器)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





