[發明專利]用于補償光學鏡片制造過程中的偏差的系統和方法

有效

• 申請號: 201580079392.8
• 申請日: 2015-05-29
• 公開（公告）號: CN107567382B
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: S·皮羅伯;B·J·格爾博
• 申請（專利權）人: 依視路國際公司
• 主分類號: B29D11/00
• 分類號: B29D11/00;B24B13/00;G05B19/418
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 杜文樹

本發明披露了一種用于補償光學鏡片制造過程中的偏差的系統和方法，其中，用戶向所述實驗室管理系統(LMS 101)提供鏡片處方，所述鏡片設計系統(LDS 103)計算基于其制造鏡片的制造參數，并且分析器被配置成用于基于光學處方標稱值以及在從鏡片表面處理設備輸出的一個或多個鏡片上測得的參數來計算一個或多個經表面處理的光學鏡片的偏差，所述分析器進一步被配置成用于基于所述偏差來計算用于一個或多個未來光學鏡片制造輪次的補償因子。所述系統使用統計學分析來確定可以向給定產品、半成品、材料、或鏡片設計應用的補償因子，以提高實驗室合格率。通過使用監測與配置系統，用戶跟蹤所述實驗室的性能的演變并且標識影響合格率的方面。用戶例如通過限定如何計算和應用所述補償因子來限定計算系統如何優化所述實驗室的性能。

背景技術

光學處方實驗室的作用是盡可能快地向專業客戶(例如，眼鏡商、獨立驗光師、批發商、和光學連鎖店)提供鏡片。光學處方實驗室必須生產出在一定公差之內具有在所接收的訂單中規定的焦度的鏡片。用于在處方實驗室內生產處方鏡片的半成品(SF)鏡片毛坯具有在一定公差之內制造出的給定的前側設計。由于在處方實驗室中的表面處理過程中出現偏差，通過對鏡片進行表面處理而實現的光焦度和光學設計并不總是完全達標的。當處方光焦度與所實現的焦度之間的差異超出預定公差時，所述鏡片報廢，因此降低了光學處理實驗室的工業合格率。

目前，光學處方實驗室的過程工程師手動執行統計學分析，以確定標稱光焦度與所實現的光焦度之間的鏡片焦度偏差的分布。這種分析的目的是試圖確定是否存在一致的光學偏差變化，可以向其應用補償來提高光學處方實驗室的合格率。使用這種統計學分析，過程工程師可以確定平均偏差并且接著靜態地限定有待在鏡片設計系統(LDS)或光學計算器中應用的補償。

關于設計測量值，目前在處方實驗室中沒有進行每個鏡片設計的系統分析。因此，這種手動工作局限于視遠光焦度偏差、并且非常麻煩，因此需要非常了解光學產品的工業性能并需要統計學分析。其還局限于使處方實驗室能夠訪問配置系統的LDS計算器。

發明內容

提供本發明內容是用于以簡化的形式介紹一些概念，這些概念將在以下詳細描述中進一步描述。本發明內容不旨在指出所要求保護的主題的關鍵特征或必不可少的特征，也不旨在用于限制所要求保護的主題的范圍。

本文披露的實施例限定了一種能夠計算處方實驗室的工業光學性能和合格率的實時計算系統或分析器。所述系統使用統計學分析來確定可以向給定產品、半成品、材料、或鏡片設計應用的補償因子，以提高實驗室合格率。通過使用監測與配置系統，用戶(例如，實驗室管理者、工程師等)跟蹤所述實驗室的性能的進展并且可以標識出影響合格率的方面。用戶還可以例如通過限定如何計算和應用所述補償因子來限定所述計算系統如何優化所述實驗室的性能。

因此，處方實驗室的性能的優化是實時地且跨多個LDS來實現的。因此集中對實驗室內運行的所有產品進行監測和控制。所述實驗室還可以使用所述系統來監測其性能隨時間的變化、并且由此檢測任何表面處理過程偏差趨勢。

本文披露的實施例提供了一種可以在光學處方實驗室中實施以優化其工業性能并且由此提高其合格率的綜合解決方案。這個系統提供的改進和益處的實例包括：

對Rx實驗室性能(例如，合格率、光學偏差、不同生產線的比較等)以及用戶的監測能力進行實時的詳細且可定制的統計學分析；

實時補償表面處理設備或LDS命令，以優化Rx實驗室的工業性能；

實時提高光學性質方面的合格率；

與Rx實驗室中使用的任何LDS光學計算器進行系統集成，并且能夠跨生產中使用的所有光學計算器進行補償；

通過取消了對于在安裝于生產環境中之前的新產品開發過程的需要，縮短了新產品的上市時間；以及

取消了對在LDS計算器內進行手動統計學分析和光學性質的靜態補償的需要。

附圖說明