[發明專利]用于補償光學鏡片制造過程中的偏差的系統和方法

有效

• 申請號: 201580079392.8
• 申請日: 2015-05-29
• 公開（公告）號: CN107567382B
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: S·皮羅伯;B·J·格爾博
• 申請（專利權）人: 依視路國際公司
• 主分類號: B29D11/00
• 分類號: B29D11/00;B24B13/00;G05B19/418
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 杜文樹

1.一種用于補償光學鏡片制造過程中的偏差的系統，包括：

分析器，所述分析器被配置成用于基于光學處方標稱值以及在從鏡片表面處理設備輸出的一個或多個鏡片上測得的參數來計算一個或多個經表面處理的光學鏡片的偏差，所述分析器進一步被配置成用于基于所述偏差來計算用于一個或多個未來光學鏡片制造輪次的補償因子，其中，所述補償因子包括調整光學處方或者修改鏡片表面處理設備命令，和

聯接至所述鏡片表面處理設備上的實驗室管理系統LMS，所述LMS被配置成用于從所述分析器接收補償因子、并且在一個或多個未來光學鏡片制造輪次期間應用所述補償因子，所述LMS進一步被配置成用于調整光學處方，以在將所述光學處方發送至鏡片設計系統LDS之前在所述鏡片表面處理設備中補償計算的偏差。

2.如權利要求1所述的系統，其中，所述分析器進一步被配置成用于直接向所述鏡片表面處理設備提供所述補償因子。

3.如權利要求1所述的系統，其中，所述分析部件進一步被配置成用于計算針對一個或多個鏡片毛坯的偏差的補償因子。

4.一種計算用于光學鏡片制造的補償因子的方法，包括：

使用光學處方標稱值以及已經完成了表面處理過程的鏡片的存儲的測量值來自動計算一個或多個光學鏡片的制造偏差；

基于所述制造偏差來計算用于一個或多個未來光學鏡片制造輪次的補償因子，其中，所述補償因子包括調整光學處方或者修改鏡片表面處理設備命令；并且

將所述補償因子提供給實驗室管理系統LMS以調整光學處方，從而在將所述光學處方發送至鏡片設計系統LDS之前補償所述計算的制造偏差。

5.如權利要求4所述的方法，其中，所述補償因子對應于以下各項中的一項或多項：鏡片表面處理設備磨損量、鏡片表面處理設備的品牌、所用消耗品的品牌、以及所用消耗品的類型。

6.如權利要求4所述的方法，進一步包括：

將所述計算的制造偏差或所述補償因子或這兩者按一種或多種類別進行分組，所述類別包括：半成品類別、產品代碼類別、光學設計類別、設計供應商類別、鏡片設計系統(LDS)類別、以及材料類別。

7.如權利要求4所述的方法，進一步包括：

基于所述計算的制造偏差來計算統計學偏差；并且

基于所述統計學偏差來計算用于所述未來光學鏡片制造輪次的補償因子。

8.如權利要求4所述的方法，進一步包括：

將所述補償因子提供給LMS以調整提供給鏡片制造設備的命令，從而補償所述計算的制造偏差。

9.如權利要求4所述的方法，進一步包括：

根據所述計算的制造偏差來標識已經完成所述表面處理過程的不合格鏡片，其中，所述不合格鏡片的一個或多個測量值在針對與所述不合格鏡片相關聯的光學處方值建立的公差之外；并且

在重復制造輪次以替換所述不合格鏡片之前應用所述計算的補償因子。