[發明專利]曝光數據生成方法、多層立體結構的制造方法、曝光數據生成裝置、計算機可讀存儲介質及多層立體結構的制造系統

有效

• 申請號: 201580078204.X
• 申請日: 2015-11-25
• 公開（公告）號: CN107430345B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: 藤澤泰充;古谷祥雄
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/095;G03F7/38;G03F7/40
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇;崔炳哲

本發明涉及多層立體結構的制造，提供能夠分別調整凹凸面中的各凹部的深度且能夠抑制曝光位置的位置偏移導致的凹凸面的形狀變化的技術。在本發明中，通過對在各層重復進行抗蝕劑層的形成與對該抗蝕劑層進行選擇性的曝光而生成的抗蝕劑層疊體進行顯影，來制造多層立體結構。因此，根據對于各抗蝕劑層的各曝光圖案，能夠分別調整凹凸面中的各凹部的深度。另外，在本發明中，曝光數據的曝光區域由凸面區域、凹面區域以及凹面周圍區域構成。因此，即使在兩層偏移的情況下，也能在對某兩個抗蝕劑層進行曝光時，抑制在多層立體結構的凹凸面產生意料之外的臺階差。

技術領域

本發明涉及通過按照曝光數據進行曝光來制造多層立體結構的技術。

背景技術

以往，已知選擇性地曝光層疊的抗蝕劑后通過顯影除去抗蝕劑層疊體中的顯影可溶區域，制造在一側具有凹凸面的多層立體結構的技術。

作為在一側具有凹凸面的多層立體結構的制造方法，例如，已知如下技術：在抗蝕劑層疊體的一側的主面部分形成用于耐蝕刻液的抗蝕覆膜后，對無覆膜的部位進行濕蝕刻。然而，當如此地通過濕蝕刻形成凹凸面時，難以分別調整凹凸面中的各凹部的深度。

在專利文獻1記載的技術中，在層疊有多層抗蝕劑成分不同的抗蝕劑層后，將多束波長不同的曝光用光照射到抗蝕劑層疊體上，選擇性地曝光抗蝕劑層疊體。接著，通過顯影除去抗蝕劑層疊體中的顯影可溶區域，制造多層立體結構。在該技術中，能夠制造已分別調整了凹凸面中的各凹部的深度的多層立體結構。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2012-208350號公報。

發明內容

發明所要解決的課題

然而，如專利文獻1那樣，當在各層中抗蝕劑的成分不同時，需要設置多個用于涂布各成分不同的抗蝕劑的涂布裝置。另外，如專利文獻1那樣，當對各抗蝕劑層照射多束波長不同的曝光用光時，需要設置多個用于照射各波長不同的曝光用光的曝光裝置。因此，從制造多層立體結構的制造處理的容易性、制造成本的觀點出發，并不優選。

另外，對于抗蝕劑層，曝光位置完全不產生位置偏移的情況很少，通常略微產生位置偏移。在這種情況下，在專利文獻1記載的技術中，曝光各抗蝕劑層時的位置偏移導致所制造的多層立體結構具有與所期望的形狀不同的凹凸面。因此，在曝光各抗蝕劑層時，即使在產生上述位置偏移的情況下，也需求能夠制造具有所期望的凹凸面的多層立體結構的技術。

本發明是鑒于上述問題提出的，涉及多層立體結構的制造，其目的在于提供能夠分別調整凹凸面中的各凹部的深度且能夠抑制曝光位置的位置偏移所導致的凹凸面的形狀變化的技術。

解決課題的技術手段

本發明的第一方式的曝光數據生成方法，在對抗蝕劑層疊體進行顯影來制造多層立體結構之前，生成多個曝光數據，所述抗蝕劑層疊體是對在各層重復進行抗蝕劑層的形成以及對所述抗蝕劑層的曝光而生成的層疊體，其特征在于，具備：分割圖案生成工序，基于表示在一側具有凹凸面的所述多層立體結構的設計數據，生成表示在深度方向按所述各層將所述多層立體結構分割時的各圖案的多個分割圖案；以及數據生成工序，對于所述多個分割圖案，將在所述一側包括凸面的凸面區域、在所述一側包括凹面的凹面區域以及位于所述凹面區域的周圍的凹面周圍區域設定為曝光區域，并生成多個曝光數據。