[發明專利]測量處理裝置、X射線檢查裝置、測量處理方法、測量處理程序及結構物的制造方法在審
| 申請號: | 201580077303.6 | 申請日: | 2015-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN107407646A | 公開(公告)日: | 2017-11-28 |
| 發明(設計)人: | 八嶋紘寬;早野史倫;河井章利 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | G01N23/04 | 分類號: | G01N23/04 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產權代理有限責任公司11019 | 代理人: | 壽寧,張華輝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 處理 裝置 射線 檢查 方法 程序 結構 制造 | ||
1.一種測量處理裝置,其用于X射線檢查裝置,具備:
區域信息獲得部,其獲得基于透射第一被測量物的一部分即第一區域的X射線的第一區域信息;
存儲部,其所述存儲比第一區域大的、與第二被測量物的第二區域有關的第二區域信息;
判斷部,其基于所述第一區域信息和所述第二區域信息,判斷與所述第一區域對應的區域是否包括在所述第二區域中。
2.如權利要求1所述的測量處理裝置,
所述第一區域具有包含所述第一被測量物的設定的截面的設定的厚度,
所述第二區域具有大于所述第一區域的厚度。
3.如權利要求2所述的測量處理裝置,
所述第一被測量物和所述第二被測量物具有相同的結構,
所述第二區域信息是基于表示所述第二被測量物的結構的設計數據的信息。
4.如權利要求2所述的測量處理裝置,
所述第一被測量物和所述第二被測量物具有相同的結構,
所述第二區域信息是基于透射所述第二被測量物的所述第二區域的X射線的信息。
5.如權利要求2所述的測量處理裝置,
所述第一被測量物和所述第二被測量物具有相同的結構,
所述第二區域信息是除所述X射線檢查裝置之外的測量檢查裝置測量所述第二被測量物的所述第二區域的至少一部分的測量信息。
6.如權利要求2所述的測量處理裝置,
還具備判斷部,
所述第二區域信息包含與所述第一被測量物的檢查對象的區域有關的檢查對象區域信息,
所述判斷部基于所述第一區域信息和所述第二區域信息,判斷所述第一區域信息是否與所述檢查對象區域信息對應。
7.如權利要求6所述的測量處理裝置,還具備:
評價部,所述判斷部判斷所述第一區域信息與所述檢查對象區域信息對應,則基于所述第一區域信息評價該第一區域的狀態;
位置差計算部,所述判斷部判斷所述第一區域信息不與所述檢查對象區域信息對應,則基于所述第一區域信息和所述第二區域信息,計算所述第一區域和所述檢查對象的區域的位置的差。
8.一種測量處理裝置,用于X射線檢查裝置,具備:
存儲部,其存儲與包含被測量物的檢查對象區域且比所述檢查對象區域大的設定區域對應的設定區域信息;
區域信息獲得部,其基于透射被測量物的一部分區域的X射線獲得與所述一部分區域有關的區域信息;
判斷部,其根據所述區域信息和所述設定區域信息,判斷所述一部分區域是否與所述檢查對象區域對應。
9.如權利要求8所述的測量處理裝置,
所述設定區域信息是基于表示被測量物的結構的設計數據的信息。
10.如權利要求8所述的測量處理裝置,
所述設定區域信息是基于透射被測量物的所述設定區域的X射線的信息。
11.如權利要求8所述的測量處理裝置,
所述設定區域信息是除所述X射線檢查裝置之外的測量檢查裝置測量被測量物的所述設定區域的至少一部分的測量信息。
12.如權利要求8所述的測量處理裝置,
評價部,所述判斷部判斷所述一部分區域與所述檢查對象區域對應,則基于所述區域信息對該一部分區域的狀態進行評價;
位置差計算部,所述判斷部判斷所述一部分區域不與所述檢查對象區域對應,則基于所述區域信息和所述設定區域信息,計算所述一部分區域和所述檢查對象區域的位置的差。
13.一種測量處理裝置,用于X射線檢查裝置,具備:
區域信息獲得部,其基于透射被測量物的一部分區域的X射線獲得與所述一部分區域有關的區域信息;
標準信息存儲部,其存儲與被測量物的一部分區域有關的標準信息;
位置特定部,其基于所述區域信息和所述標準信息,特定所述一部分區域的位置。
14.如權利要求1~13的任一項所述的測量處理裝置,
一種X射線檢查裝置,具備:
對被測量物照射X射線的X射線源,及
對透射所述被測量物的X射線進行檢測的檢測部。
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