[發明專利]微晶磨皮裝置有效
| 申請號: | 201580076403.7 | 申請日: | 2015-12-03 |
| 公開(公告)號: | CN107708583B | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發明(設計)人: | M·朱納;L·G·M·貝簡斯;F·G·P·皮特斯 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號: | A61B17/32 | 分類號: | A61B17/32;A61B17/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人: | 鄭立柱;范懷志 |
| 地址: | 荷蘭艾恩*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 微晶磨皮 裝置 | ||
本發明涉及一種用于微晶磨皮處理的裝置,包括:處理頭(16),該處理頭具有腔(18)、開口(22)、以及處理頭尖端(24),腔(18)具有內壁(20),開口(22)在所述內壁中,所述處理頭尖端(24)用于將所述處理頭(16)放置在用戶的皮膚(48)上,其中所述處理頭尖端(24)包括第一研磨表面(26),并且所述內壁(20)包括第二研磨表面(28),其中所述開口(22)配置成連接到真空源(30),當所述處理頭尖端(24)放置在用戶皮膚(48)上時,以用于在所述腔(18)內施加負壓(58),并且其中所述第一研磨表面(26)包括不同于所述第二研磨表面(28)的粗糙度。
技術領域
本發明涉及一種用于微晶磨皮皮膚處理的裝置。
背景技術
微晶磨皮是一種被廣泛接受的皮膚處理技術,通過解決衰老的最初跡象來改善皮膚。眾所周知,微晶磨皮處理導致數種皮膚益處,包括使皮膚光滑、改善整體面貌、甚至膚色。研磨皮膚會使得皮膚紋理平滑以及改善光澤度。通過在微晶磨皮處理期間去除最頂層的角質層,向基底皮層發送信號使得增加活力角質細胞的增殖,并且使得活力表皮層增厚以及更好的排列。研磨也對皮膚的屏障功能具有影響。角質層的這種屏障功能保護身體免受細菌或其他物質的滲透以及防止過多的水分蒸發。微晶磨皮處理暫時地降低屏障功能,以使局部藥物(tropicals)可以更深地滲透入皮膚并且更有效。
改善處理效果的一種方式是通過增加負壓并因此增加與皮膚的研磨接觸面積來去除角質層的更多層。然而,這種途徑可能導致諸如發紅和皮膚干燥的不希望的皮膚反應。
US 2008/0249537 A1描述了一種皮膚表面換膚裝置,該裝置包括皮膚處理器、可控真空源和皮膚傳感器。
US 2013/110032 A1描述了一種用于處理表面的系統和方法。根據該文獻,用于處理表面的柔性或有適應性襯墊可以特別地適用于不平表面的處理。一種設備可以包括安裝段和柔性表面,該柔性表面包括多個處理段。該處理段可以包括研磨材料。在所述設備表面的裂紋或槽使第一和第二處理段能夠相對于被處理表面采取各自的第一和第二位置。槽的邊緣可以被設計用于增加設備的研磨度并且可以從被處理表面去除材料。其他的實施例被描述并要求保護。
微晶磨皮裝置通常包括附接到處理頭的真空泵,該處理頭具有研磨表面。該處理頭在皮膚表面上移動,導致真空按摩連同被研磨表面刮掉的死皮細胞的剝落。目前,這種微晶磨皮裝置通常僅去除角質層的很少層并且保持屏障功能大部分完整。因此,經過這樣的處理,局部藥物仍然不能滲透到更深層皮膚,因此通過處理,局部藥物的有效性不能被增強。
使用US 2008/0249537 A1的皮膚傳感器,確定皮膚類型,并且根據檢測到的皮膚類型,使由真空源生成的真空適應,使得實現改善研磨級別的調節。調節僅由真空級別控制,研磨級別的微調是不可行的。
因此,需要一種新的裝置,該裝置提供對微晶磨皮處理、特別是對研磨級別更多的控制,并且進一步增強處理的有效性。
發明內容
本發明的目的是提供一種微晶磨皮裝置,所述裝置允許對處理過程進行細粒度控制以提高處理的有效性,特別是在在必要的地方的增強的局部滲透。
如在隨附的權利要求書中所進一步限定的,根據本發明的第一方面,該目的是通過一種用于微磨處理的裝置來實現,該裝置具有帶有內壁的腔、在所述內壁中的開口、以及用于將處理頭放置在用戶皮膚上的處理頭尖端,其中處理頭尖端包括第一研磨表面,并且內壁包括第二研磨表面,其中開口配置成連接到真空源,以用于當處理頭尖端放置在用戶的皮膚上時,在腔內施加負壓,并且其中第一研磨表面包括與第二研磨表面不同的粗糙度。
在從屬權利要求中限定了本發明的優選實施例。
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