[發(fā)明專利]具有原子層沉積涂層的部件及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580073226.7
• 申請日: 2015-11-13
• 公開（公告）號: CN107109644B
• 公開（公告）日: 2020-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: E·卡爾;K·基利恩
• 申請（專利權(quán)）人: 安捷倫科技有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;B01D15/22;B01D53/04
• 代理公司: 北京坤瑞律師事務(wù)所 11494
• 代理人: 封新琴

1.具有內(nèi)腔的部件，其內(nèi)表面涂覆有保形保護(hù)涂層，其中所述保形保護(hù)涂層通過原子層沉積方法形成，所述原子層沉積方法包括：

將所述部件的內(nèi)表面與氣相的第一分子前體接觸一個(gè)時(shí)間段，使得所述第一分子前體反應(yīng)以在所述部件的內(nèi)表面上形成沉積物；

從所述部件除去未反應(yīng)的第一分子前體和如果存在的反應(yīng)副產(chǎn)物；和

將所述部件的內(nèi)表面與氣相的第二分子前體接觸一個(gè)時(shí)間段，使得所述第二分子前體與所述沉積物反應(yīng)以在所述部件的內(nèi)表面上形成保形保護(hù)涂層，

其中所述部件為用于液相色譜裝置、氣相色譜裝置或微流體裝置的部件；

所述內(nèi)腔的特征在于，至少一個(gè)尺寸為10mm或更小且一個(gè)尺寸為20mm或更大；且

所述保形保護(hù)涂層包含選自以下的物質(zhì)：SiC、Si₃N₄、SiO_xC_y(其中2x+4y＝4)、SiO_xN_y(其中2x+3y＝4)、SiC_xH_y(其中4x+y＝4)、TiO₂、ZrO₂、Al₂O₃、Y₂O₃、Ta₂O₅和HfO₂，或它們的組合。

2.權(quán)利要求1所述的部件，其中所述部件由不銹鋼、鈦、鈦合金或聚合物構(gòu)成。

3.權(quán)利要求1所述的部件，其中所述原子層沉積方法進(jìn)一步包括重復(fù)所述方法以制備需要的厚度和/或組成的保形保護(hù)涂層。

4.權(quán)利要求1所述的部件，其中所述保形保護(hù)涂層具有基本均勻的厚度。

5.權(quán)利要求4所述的部件，其中所述保形保護(hù)涂層具有基本均勻的1nm至500nm的厚度。

6.權(quán)利要求1所述的部件，其中所述保形保護(hù)涂層包含兩層或更多個(gè)層，各層包含不同的材料。

7.以保形保護(hù)涂層涂覆具有內(nèi)腔的部件的內(nèi)表面的原子層沉積方法，所述方法包括：

將所述部件的內(nèi)表面與氣相的第一分子前體接觸一個(gè)時(shí)間段，使得所述第一分子前體反應(yīng)以在所述部件的內(nèi)表面上形成沉積物；

從所述部件除去未反應(yīng)的第一分子前體和如果存在的反應(yīng)副產(chǎn)物；和

將所述部件的內(nèi)表面與氣相的第二分子前體接觸一個(gè)時(shí)間段，使得所述第二分子前體與所述沉積物反應(yīng)以在所述部件的內(nèi)表面上形成保形保護(hù)涂層，

其中所述部件為用于液相色譜裝置、氣相色譜裝置或微流體裝置的部件；

所述內(nèi)腔的特征在于，至少一個(gè)尺寸為10mm或更小且一個(gè)尺寸為20mm或更大；且

所述保形保護(hù)涂層包含選自以下的物質(zhì)：SiC、Si₃N₄、SiO_xC_y(其中2x+4y＝4)、SiO_xN_y(其中2x+3y＝4)、SiC_xH_y(其中4x+y＝4)、TiO₂、ZrO₂、Al₂O₃、Y₂O₃、Ta₂O₅和HfO₂，或它們的組合。

8.權(quán)利要求7所述的方法，其進(jìn)一步包括從所述部件除去未反應(yīng)的第二分子前體和如果存在的反應(yīng)副產(chǎn)物。

9.權(quán)利要求8所述的方法，其中除去未反應(yīng)的第一分子前體和反應(yīng)副產(chǎn)物包括用惰性氣體吹掃所述部件。

10.權(quán)利要求7所述的方法，其進(jìn)一步包括重復(fù)所述方法以制備需要的厚度和/或組成的保形保護(hù)涂層。