[發明專利]真空卡盤裝置

在審

• 申請號: 201580070393.6
• 申請日: 2015-07-09
• 公開（公告）號: CN107112273A
• 公開（公告）日: 2017-08-29
• 發明（設計）人: 樸佑泰
• 申請（專利權）人: 樸佑泰
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683
• 代理公司: 北京冠和權律師事務所11399
• 代理人: 朱健

1.一種真空卡盤裝置，真空卡盤是由吸附部(10)和基底(20)相結合而形成的，所述吸附部(10)為了使得對象物得到吸附并支撐而由多孔材料形成，所述基底(20)與所述吸附部(10)相結合，從而通過吸附部(10)產生吸入壓力，所述真空卡盤裝置的特征在于，包括：

真空卡盤構成部(40)，其基底(20)形成有在內部用于形成真空的腔室(21)，并且在所述腔室(21)的內側形成多個支撐架(30)，所述多個支撐架(30)能夠支撐吸附部(10)，所述基底(20)的至少任意一側形成有吸入孔(23)，所述吸入孔(23)用于能夠在腔室(21)內部生成吸入壓力；

框架(50)，其為了使得所述真空卡盤構成部(40)保持用于實施作業的高度，在上部安裝有真空卡盤構成部(40)，并且在真空卡盤構成部(40)的下側形成有收納空間(S)，所述收納空間(S)收納用于使得真空卡盤構成部(40)驅動的設備。

2.根據權利要求1所述的真空卡盤裝置，其特征在于，所述框架(50)包括：

圖像采集裝置(52)，其配置于真空卡盤構成部(40)的上部，從而能夠對對象物的作業或實驗狀況進行觀察；

設置架(51)，其為了能夠使得所述圖像采集裝置(52)配置于真空卡盤構成部(40)的上部，從而向框架(50)的上部延長形成。

3.根據權利要求2所述的真空卡盤裝置，其特征在于，

所述框架(50)還包括導軌總成(60)，所述導軌總成(60)設置于設置架(51)，并與圖像采集裝置(52)相結合，從而能夠對圖像采集裝置(52)的位置和角度進行變更，所述影像采集裝置(52)用于在安裝有對象物的真空卡盤構成部(40)的上部觀察對象物。

4.根據權利要求1所述的真空卡盤裝置，其特征在于，

所述支撐架(30)在腔室(21)的內部按多個列和行進行排列形成，在對象物吸附于吸附部(10)上后，為了向各個方向支撐對象物的重量，內側的部分形成為“+”形態。

5.根據權利要求1所述的真空卡盤裝置，其特征在于，

所述吸入孔(23)貫通基底(20)的內、外壁面并由一個以上的數量形成，并且所述吸入孔(23)的中心線上形成為能夠配置于按多個列和行進行排列的支撐架(30)與支撐架(30)的間隔之間。

6.根據權利要求1所述的真空卡盤裝置，其特征在于，

所述基底(20)形成為四邊形態，在相互面對的兩側的側壁以相互面對的形式形成多個吸入孔(23)，所述支撐架(30)以使得多個支撐架(30)之間的間隔形成于吸入孔(23)的中心線上的形式進行排列形成。

7.一種真空卡盤裝置，真空卡盤是由吸附部(10)和基底(20)相結合而形成的，所述吸附部(10)為了使得對象物得到吸附并支撐而由多孔材料形成，所述基底(20)與所述吸附部(10)相結合，從而通過吸附部(10)產生吸入壓力，所述真空卡盤裝置的特征在于，

所述基底(20)形成有在內部用于形成真空的腔室(21)，在所述腔室(21)的內側形成有多個支撐架(30)，所述多個支撐架(30)能夠支撐吸附部(10)，在所述基底(20)的至少任意一側形成有吸入孔(23)，所述吸入孔(23)用于能夠在腔室(21)內部生成吸入壓力。

8.根據權利要求7所述的真空卡盤裝置，其特征在于，

所述支撐架(30)在腔室(21)的內部按多個列和行進行排列形成，在對象物吸附于吸附部(10)上后，為了向各個方向支撐對象物的重量，內側的部分形成為“+”形態。

9.根據權利要求7所述的真空卡盤裝置，其特征在于，

所述吸入孔(23)貫通基底(20)的內、外壁面并由一個以上的數量形成，并且所述吸入孔(23)的中心線上形成為能夠配置于按多個列和行進行排列的支撐架(30)與支撐架(30)的間隔之間。

10.根據權利要求7所述的真空卡盤裝置，其特征在于，

所述基底(20)形成為四邊形態，在相互面對的兩側的側壁以相互面對的形式形成多個吸入孔(23)，所述支撐架(30)以使得多個支撐架(30)之間的間隔形成于吸入孔(23)的中心線上的形式進行排列形成。

11.根據權利要求7所述的真空卡盤裝置，其特征在于，

所述基底(20)在開放部形成有結合槽(22)，吸附部(10)結合于所述開放部，吸附部(10)的外周端以插入的形式結合于所述結合槽(22)。