[發明專利]用于放射成像的裝置、系統和方法有效
| 申請號： | 201580070073.0 | 申請日： | 2015-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN107530036B | 公開（公告）日： | 2021-02-19 |
| 發明（設計）人： | 張宏軍 | 申請（專利權）人： | 上海聯影醫療科技股份有限公司 |
| 主分類號： | A61B6/00 | 分類號： | A61B6/00;G01N23/00 |
| 代理公司： | 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606 | 代理人： | 劉葛 |
| 地址： | 上海市嘉定區*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 放射 成像 裝置 系統 方法 | ||
1.一種放射成像系統，包括：
一個放射源；
一個探測器，探測器包含復數個探測器單元；和
位于放射源和探測器單元之間的第一格柵元件，第一格柵元件包含許多個射線穿過區；
放射源發出的射線穿過第一格柵元件上的至少一個射線穿過區，并由至少一個探測器單元上的有效區域接收到；可以通過調節第一格柵元件來調節有效區域；
放射源、第一格柵元件和探測器單元組合使用可用于檢測一個目標；
第二格柵元件被布置在第一格柵元件和探測器之間；
第二格柵元件上包含許多個射線穿過區，并且所述第二格柵元件上的所述多個射線穿過區的至少一個射線穿過區與有效區域組合使用；
第一格柵元件包括多個射線穿過區，第二格柵元件包括多個射線穿過區，第一格柵元件的射線穿過區與所述第二格柵元件的射線穿過區排列方向不同；
有效區域是由第一格柵元件上的至少一個射線穿過區和第二格柵元件上的至少一個射線穿過區所共同定義的。
2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，對第一格柵元件的調節包括調節第一格柵元件的位置或第一格柵元件的傾斜角度。
3.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，還包含一個遮擋裝置，該遮擋裝置可調節地遮擋放射源。
4.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，第一格柵元件和第二格柵元件可以做相對運動。
5.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，第一格柵元件上的射線穿過區沿第一方向延伸。
6.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，第一格柵元件可沿著與第一方向垂直的第二方向移動。
7.根據權利要求5所述的系統，其特征在于，第二格柵元件可沿著第一方向移動。
8.根據權利要求1所述的系統，其特征在于，放射源有包括復數個焦點。
9.根據權利要求8所述的系統，其特征在于，從放射源的至少兩個不同焦點發出的射線對目標進行掃描。
10.一種放射成像方法，包括：
在放射源和探測器之間設置第一格柵元件，探測器上包含許多探測器單元，第一格柵元件上包含許多個射線穿過區；
射線由放射源向第一格柵元件發射；并且
射線穿過第一格柵元件上的至少一個射線穿過區，并由至少一個探測器單元上的有效區域接收到，通過調節第一格柵元件可以調節有效區域；
放射源、第一格柵元件和探測器單元組合使用可用于檢測一個目標，
第二格柵元件被布置在第一格柵元件和探測器之間；
第二格柵元件上包含許多個射線穿過區，并且所述第二格柵元件上的所述多個射線穿過區的至少一個射線穿過區與有效區域組合使用；
第一格柵元件包括多個射線穿過區，第二格柵元件包括多個射線穿過區，
第一格柵元件的射線穿過區與所述第二格柵元件的射線穿過區排列方向不同；
有效區域是由第一格柵元件上的至少一個射線穿過區和第二格柵元件上的至少一個射線穿過區所共同定義的。
11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，對第一格柵元件的調節可以包括調節第一格柵元件的位置或第一格柵元件傾斜角度。
12.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，還包含一個遮擋裝置，該遮擋裝置可調節地遮擋放射源。
13.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，第一格柵元件和第二格柵元件可相對運動。
14.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，第一格柵元件上的射線穿過區沿第一方向延伸。
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