[發(fā)明專利]掠入射熒光X射線分析裝置和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201580069728.2
• 申請日: 2015-10-02
• 公開（公告）號: CN107110798B
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發(fā)明（設計）人: 表和彥;山田隆
• 申請（專利權）人: 株式會社理學
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉淼

1.一種掠入射熒光X射線分析裝置，該掠入射熒光X射線分析裝置包括：

放射X射線的X射線源；

彎曲分光元件，該彎曲分光元件對從上述X射線源所放射的X射線進行分光，形成匯聚于試樣的表面的一定位置的X射線束；

狹縫，該狹縫設置于上述彎曲分光元件和試樣之間，具有在聚光角方向限制所通過的上述X射線束的寬度的線狀開口；

狹縫移動機構，該狹縫移動機構將上述狹縫移動到與通過上述線狀開口的上述X射線束相交叉的方向；

掠射角設定機構，該掠射角設定機構控制狹縫移動機構，移動狹縫，該掠射角設定機構在通過上述狹縫移動機構移動上述狹縫后，將上述X射線束的掠射角設定在所需的角度；

檢測器，該檢測器測定從照射了上述X射線束的試樣而產生的熒光X射線的強度。

2.根據(jù)權利要求1所述的掠入射熒光X射線分析裝置，其中，上述狹縫為可改變上述線狀開口的寬度的可變狹縫。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的掠入射熒光X射線分析裝置，其中，上述彎曲分光元件由多層膜構成，在該多層膜中，于襯底上疊置多個層對，該層對由反射層和間隔層構成，具有規(guī)定的周期長度，上述反射層和間隔層的厚度的比在1∶1.4～1∶4的范圍內，或者，

上述彎曲分光元件由多層膜構成，在該多層膜中，于襯底上疊置多個層對，該層對由反射層和間隔層構成，具有規(guī)定的周期長度，上述多層膜具有多張，越是接近襯底的多層膜，上述規(guī)定的周期長度設定得越小。

4.根據(jù)權利要求3所述的掠入射熒光X射線分析裝置，其中，其包括濾波片或外加電壓可變機構，該濾波片從上述X射線源到試樣的X射線光路中能自由進退，具有高于高能量側的透射率，該外加電壓可變機構能改變施加于上述X射線源的外加電壓；

通過上述濾波片或上述外加電壓可變機構，能改變上述X射線束中包括的能量不同的多根X射線的強度比。

5.一種熒光X射線分析方法，該熒光X射線分析方法采用權利要求1～4中的任何一項所述的掠入射熒光X射線分析裝置進行分析。