[發明專利]掠入射熒光X射線分析裝置和方法

有效

• 申請號: 201580069728.2
• 申請日: 2015-10-02
• 公開（公告）號: CN107110798B
• 公開（公告）日: 2019-08-16
• 發明（設計）人: 表和彥;山田隆
• 申請（專利權）人: 株式會社理學
• 主分類號: G01N23/223
• 分類號: G01N23/223
• 代理公司: 北京三幸商標專利事務所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉淼

本發明的掠入射熒光X射線分析裝置(1)包括：X射線源(2)；彎曲分光元件(4)，該彎曲分光元件(4)對從X射線源(2)所放射的X射線(3)進行分光，形成匯聚于試樣(S)的表面的一定位置(15)的X射線束(5)；狹縫(6)，該狹縫(6)設置于彎曲分光元件(4)和試樣(S)之間，具有線狀開口(61)；狹縫移動機構(7)，該狹縫移動機構(7)將狹縫(6)移動到與通過線狀開口(61)的X射線束(5)相交叉的方向；掠射角設定機構(8)，該掠射角設定機構(8)在通過狹縫移動機構(7)移動狹縫(6)后，將X射線束(5)的掠射角(α)設定在所需的角度；檢測器(10)，該檢測器(10)測定從照射了X射線束(5)的試樣(S)而產生的熒光X射線(9)的強度。

相關申請

本發明要求申請日為2014年12月25日、申請號為JP特愿2014—262464號申請的優先權，通過參照其整體，將其作為構成本申請的一部分的內容而進行引用。

技術領域

本發明涉及對試樣進行照射的X射線源的一次X射線的掠射角進行自動調整的掠入射熒光X射線分析裝置和方法。

背景技術

過去，為了使從試樣而產生的熒光X射線的強度為最大，具有下述的熒光X射線分析裝置，該熒光X射線分析裝置包括：多個X射線源；X射線源選擇機構，該X射線源選擇機構從多個X射線源中選擇1個X射線源；X射線源調整機構，該X射線源調整機構調整X射線源位置；分光元件位置調整機構，該分光元件位置調整機構調整分光元件位置，其中，通過自動調整對應于分析目的而選擇的X射線源的一次X射線的照射位置和照射角度，經常、短時間地進行高靈敏度、高精度的分析(專利文獻1)。

已有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：JP特開2008—32703號公報

發明內容

發明要解決的課題

但是，對于該熒光X射線分析裝置，必須要求多個機構，該多個機構為從多個X射線源中選擇1個X射線源的X射線源選擇機構；調整X射線源的位置的X射線源調整機構；分光元件位置調整機構等，該分光元件位置調整機構調整分光元件的位置，裝置的結構是復雜的，導致成本上升。

于是，本發明是針對這樣的問題而提出的，本發明的目的在于，提供一種掠入射熒光X射線分析裝置，其中，在溶液點滴干燥于襯底上的試樣中的元素的定量、或形成于襯底上的薄膜試樣的膜厚測定等的各種測定中，通過低成本的簡單的結構，將作為照射到試樣中的一次X射線和試樣的表面之間的角度的掠射角設定為最佳的角度，進行高靈敏度、高精度的分析。

用于解決課題的技術方案

為了實現上述目的，本發明涉及一種掠入射熒光X射線分析裝置，該掠入射熒光X射線分析裝置包括：放射X射線的X射線源；彎曲分光元件，該彎曲分光元件對從上述X射線源所放射的X射線進行分光，形成匯聚于試樣的表面的一定位置的X射線束；狹縫，該狹縫設置于上述彎曲分光元件和試樣之間，具有在聚光角方向限制所通過的上述X射線束的寬度的線狀開口；狹縫移動機構，該狹縫移動機構將上述狹縫移動到與通過上述線狀開口的上述X射線束相交叉的方向；掠射角設定機構，該掠射角設定機構在通過上述狹縫移動機構移動上述狹縫后，將上述X射線束的掠射角設定在所需的角度；檢測器，該檢測器測定從照射了上述X射線束的試樣而產生的熒光X射線的強度。

按照本發明的第1方案的掠入射熒光X射線分析裝置，在溶液點滴干燥于襯底上的試樣中的元素的定量、或形成于襯底上的薄膜試樣的膜厚測定等的各種測定中，通過低成本的簡單的結構，設定為最佳的掠射角，進行高靈敏度的高精度的分析。