[發明專利]使用圖案形成裝置形貌引入的相位的方法和設備

在審

• 申請號: 201580068449.4
• 申請日: 2015-11-25
• 公開（公告）號: CN107111239A
• 公開（公告）日: 2017-08-29
• 發明（設計）人: J·M·芬德爾斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司11021
• 代理人: 王靜

1.一種方法，所述方法包括：

測量光刻圖案形成裝置的圖案的特征的三維形貌；和

根據測量結果計算由圖案的三維形貌所導致的波前相位信息。

2.根據權利要求1所述的方法，還包括根據測量結果計算由圖案的三維形貌所導致的波前強度信息。

3.根據權利要求1所述的方法，其中測量三維形貌包括測量選自由下列特征構成的組的特征：臨界尺寸、節距、側壁角、吸收體高度、折射率、消光系數、吸收體疊層順序及其組合。

4.根據權利要求1所述的方法，還包括：

使用光刻圖案形成裝置的圖案的特征的所測量的三維形貌來確定對于圖案形成裝置所用在的光刻系統的可調節參數的一組調整量。

5.根據權利要求4所述的方法，還包括使用圖案形成裝置和所調整的光刻系統來將圖案成像到設置在襯底上的輻射敏感材料上。

6.根據權利要求1所述的方法，其中光刻圖案形成裝置的圖案的特征的所測量的三維形貌用于模擬光刻系統的波前相位信息。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述測量步驟包括以散射儀和/或掃描電子顯微鏡或原子力顯微鏡和/或光學量測工具進行測量。

8.根據權利要求1所述的方法，其中所述測量步驟包括以散射儀進行測量，且所述計算步驟包括選自以下方法構成的組中的方法：對三維形貌進行建模、將所測量光譜與光譜庫進行比較以及迭代搜索。

9.根據權利要求1所述的方法，其中計算波前相位信息是基于與光刻設備的照射輪廓相關聯的衍射圖案的。

10.根據權利要求1所述的方法，其中波前相位信息包括對于圖案的多個臨界尺寸的波前相位信息、和/或對于圖案的側壁角和/或照射輻射的多個入射角的波前相位信息、和/或對于圖案的多個節距的波前相位信息、和/或對于多個光瞳位置或衍射級的波前相位信息。

11.根據權利要求1所述的方法，還包括使用光刻圖案形成裝置來調整與光刻過程相關聯的參數來獲得圖案的成像的對比度的改進。

12.根據權利要求11所述的方法，其中所述參數是圖案形成裝置的圖案的形貌的參數或圖案形成裝置的照射的參數。

13.根據權利要求1所述的方法，包括調節圖案形成裝置的折射率、圖案形成裝置的消光系數、圖案形成裝置的吸收體的側壁角、圖案形成裝置的吸收體的高度或厚度或者從其中選擇的任意組合，以最小化相位變化。

14.一種非易失性計算機程序產品，包括配置成使處理器執行根據權利要求1所述的方法的機器可讀指令。

15.一種制造器件的方法，其中使用光刻過程將器件圖案施加至一系列的襯底，所述方法包括使用根據權利要求1的方法來確定光刻系統的可調節參數和將該器件圖案曝光到襯底上。