[發明專利]電子照相感光體

有效

• 申請號: 201580064968.3
• 申請日: 2015-11-26
• 公開（公告）號: CN107111257B
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 井田和孝
• 申請（專利權）人: 三菱化學株式會社
• 主分類號: G03G5/05
• 分類號: G03G5/05;G03G5/06;G03G5/14
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

本發明提供一種感光體的強曝光暴露后的電位變化得到抑制、成膜及耐磨耗性的機械特性提高的電子照相感光體、盒、圖像形成裝置。本發明涉及一種電子照相感光體，其特征在于，其在導電性基體上具有電荷產生層及膜厚為15μm以上且40μm以下的電荷傳輸層，該電荷傳輸層為最外層，該電荷傳輸層含有無機填料和下述通式(1)所示的烴化合物。

技術領域

本發明涉及電子照相感光體，詳細而言，涉及耐強曝光特性提高且耐磨耗性及耐成膜性等機械特性、以及耐氣體性也優良的電子照相感光體。

背景技術

近年的電子照相感光體對電特性方面及機械特性方面這兩方面比以前更要求耐久性。其中，在機械特性方面，為了應對長期使用而提高感光體最外層表面的耐磨耗性成為課題之一。另外，為了使使用期間內所必需的設備維護等容易進行，抑制由維護時自然光或熒光燈的漫射光等引起的、對感光體的所謂強曝光暴露所引起的不良影響也是課題之一。

其中，就前者的機械特性方面而言，已知通過使保護層中含有金屬氧化物顆粒而提高耐磨耗性等的技術(專利文獻1)。通過使比感光層薄(1～5μm左右)的保護層中含有金屬氧化物顆粒，可以抑制金屬氧化物顆粒的使用量，是抑制對電特性的不良影響且以機械特性方面的改良為目標的合理方法。

另外，將對于后者的由自然光或熒光燈的漫射光等引起的強曝光暴露對感光體的損傷的耐受性稱為耐強曝光特性，作為提高該特性的技術，已知在感光層中使用具有供電子性的修飾的氨基結構的特定化合物來改良耐強曝光特性的技術(專利文獻2)。

該技術的本質在于，通過使感光層中含有特定化合物而發揮濾波器作用、抑制這些光給感光體造成的損傷，所述特定化合物具備在與自然光或熒光燈的漫射光相當的波長區具有吸收的供電子性骨架。

損傷產生的推定機理如下。由于感光層吸收自然光、熒光燈的漫射光，產生感光層的電荷傳輸物質的激發狀態、或電荷傳輸物質與粘結劑樹脂間的電荷移動絡合物的激發狀態，通過繼而發生的與氧或臭氧的反應而發生電荷傳輸物質的劣化，這是感光體損傷的原因。

通過添加上述特定化合物來抑制感光層中的感光材料對自然光、熒光燈的漫射光等有害光的吸收的方法，作為感光體損傷的抑制對策是合理的。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2002-182416號公報

專利文獻2：日本特開2004-206109號公報

發明內容

發明要解決的問題

但是，專利文獻2中記載的上述添加特定化合物的技術中，具有供電子性骨架的特定化合物在電荷傳輸層中為相容化狀態，因此容易限制電荷傳輸，其結果是，感光體的強曝光暴露后的電位變化的抑制不充分。

本發明是為了解決這樣的課題而作出的。即，本發明的目的在于，提供一種強曝光暴露所引起的電特性變動少、機械特性和耐氣體性也優良的電子照相感光體以及搭載有上述電子照相感光體的圖像形成裝置。

用于解決問題的方案

本發明人朝著通過在感光層中利用非相容的材料來解決課題的方向進行了深入研究，完成了提供感光體的耐強曝光特性良好、且機械特性和耐氣體性也優良的感光體的技術。

即，本發明的主旨在于以下＜1＞～＜12＞。

＜1＞一種電子照相感光體，其特征在于，其在導電性基體上具備電荷產生層、及膜厚為15μm以上且40μm以下的電荷傳輸層，該電荷傳輸層為最外層，該電荷傳輸層含有無機填料和下述通式(1)所示的烴化合物，

通式(1)