[發明專利]電子照相感光體

有效

• 申請號: 201580064968.3
• 申請日: 2015-11-26
• 公開（公告）號: CN107111257B
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發明（設計）人: 井田和孝
• 申請（專利權）人: 三菱化學株式會社
• 主分類號: G03G5/05
• 分類號: G03G5/05;G03G5/06;G03G5/14
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種電子照相感光體，其特征在于，其在導電性基體上具備電荷產生層以及膜厚為15μm以上且40μm以下的電荷傳輸層，該電荷傳輸層為最外層，該電荷傳輸層含有無機填料、下述通式（1）所示的烴化合物、和通式（2）所示的吸電子性化合物，

通式（2）中，X¹，X²，X³，X⁴，Y¹，Y²，Y³，Y⁴表示氫原子、烷基、芳基、酰基或2價的有機基團，可以形成含有X¹和X²的環結構、含有X³和X⁴的環結構、含有Y¹和Y²的環結構、含有Y³和Y⁴的環結構。

2.根據權利要求1所述的電子照相感光體，其中，所述無機填料為二氧化硅。

3.根據權利要求2所述的電子照相感光體，其中，所述二氧化硅進行了表面修飾。

4.根據權利要求1~3中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述無機填料的平均一次粒徑為0.01μm以上且1μm以下。

5.根據權利要求1~3中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述電荷傳輸層含有粘結劑樹脂，所述無機填料的含量相對于該粘結劑樹脂為5質量%以上且30質量%以下。

6.根據權利要求4所述的電子照相感光體，其中，所述電荷傳輸層含有粘結劑樹脂，所述無機填料的含量相對于該粘結劑樹脂為5質量%以上且30質量%以下。

7.根據權利要求1~3、6中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述通式（1）所示的烴化合物的比例相對于所述無機填料為10質量%以上且100質量%以下。

8.根據權利要求4所述的電子照相感光體，其中，所述通式（1）所示的烴化合物的比例相對于所述無機填料為10質量%以上且100質量%以下。

9.根據權利要求5所述的電子照相感光體，其中，所述通式（1）所示的烴化合物的比例相對于所述無機填料為10質量%以上且100質量%以下。

10.根據權利要求1所述的電子照相感光體，其中，所述通式（2）所示的吸電子性化合物為下述通式（2a）~（2d）所示的化合物中的任一種，

。

11.根據權利要求1或10所述的電子照相感光體，其中，所述無機填料為二氧化硅，所述通式（2）所示的化合物的含有比例相對于所述二氧化硅為2質量%以上且50質量%以下。

12.根據權利要求1~3、6、8~10中任一項所述的電子照相感光體，其中，所述電荷產生層含有D型（Y型）氧鈦酞菁，所述D型（Y型）氧鈦酞菁在CuKα特性X射線衍射光譜中、在布拉格角2θ±0.2゜為27.1゜以上且27.3゜以下顯示出明顯的峰。

13.根據權利要求4所述的電子照相感光體，其中，所述電荷產生層含有D型（Y型）氧鈦酞菁，所述D型（Y型）氧鈦酞菁在CuKα特性X射線衍射光譜中、在布拉格角2θ±0.2゜為27.1゜以上且27.3゜以下顯示出明顯的峰。

14.根據權利要求5所述的電子照相感光體，其中，所述電荷產生層含有D型（Y型）氧鈦酞菁，所述D型（Y型）氧鈦酞菁在CuKα特性X射線衍射光譜中、在布拉格角2θ±0.2゜為27.1゜以上且27.3゜以下顯示出明顯的峰。